[发明专利]富铟磷化铟多晶料的循环利用方法在审
申请号: | 201711105481.2 | 申请日: | 2017-11-10 |
公开(公告)号: | CN107829141A | 公开(公告)日: | 2018-03-23 |
发明(设计)人: | 赵有文;董志远;杨俊;段满龙 | 申请(专利权)人: | 北京鼎泰芯源科技发展有限公司 |
主分类号: | C30B29/40 | 分类号: | C30B29/40;C30B35/00 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人: | 曹素云,李琳 |
地址: | 100080 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磷化 多晶 循环 利用 方法 | ||
1.一种富铟磷化铟多晶料的循环利用方法,其特征在于,包括以下步骤:
第一步,按富铟程度,对富铟InP多晶进行分选,切割出富铟较轻InP多晶和富铟严重InP多晶两部分;
第二步,对富铟较轻InP多晶进行化学腐蚀、清洗以及烘干;
第三步,将所述第二步处理后的富铟较轻InP多晶拉制InP多晶棒;
第四步,对所述第三步得到的InP多晶棒进行第一电学检测,分拣出第一电学参数合格InP多晶和第一电学参数不合格InP多晶,第一电学参数合格InP多晶进行第五步,第一电学参数不合格InP多晶进行第六步;
第五步,将合格InP多晶打包入库储存;
第六步,将所述第一步切割出的富铟严重InP多晶和所述第四步得到的第一电学参数不合格InP多晶进行化学腐蚀、清洗以及烘干;
第七步,将所述第六步得到的InP多晶作为水平合成的原料进行InP多晶的合成;
第八步,对所述第七步合成的InP多晶进行第二电学检测、分拣出第二电学参数合格InP多晶和第二电学参数不合格InP多晶,第二电学参数合格InP多晶进行第五步,第二电学参数不合格的InP多晶进行积攒,积攒后循环第一步到第八步的操作。
2.如权利要求1所述的富铟磷化铟多晶料的循环利用方法,其特征在于,在所述第一步中,首先,通过肉眼判断富铟InP多晶的富铟程度,富铟InP多晶上部为富铟较轻InP多晶,尾部为富铟严重InP多晶;然后,采用线锯或带锯将富铟InP多晶的上部和尾部进行切割分离,得到富铟较轻InP多晶和富铟严重InP多晶。
3.如权利要求1所述的富铟磷化铟多晶料的循环利用方法,其特征在于,所述第二步和所述第六步中包括以下步骤,
首先,采用化学腐蚀液腐蚀2-10分钟;
然后,原料从腐蚀液中取出迅速用去离子水冲洗,所述去离子水的电阻率在15兆以上;
所述去离子水冲洗后再放入超净台内进行烘干。
4.如权利要求3所述的富铟磷化铟多晶料的循环利用方法,其特征在于,所述第二步和所述第六步中,腐蚀后用电阻率15兆或16兆的去离子水冲洗。
5.如权利要求3所述的富铟磷化铟多晶料的循环利用方法,其特征在于,在所述第二步和所述第六步中,所述化学腐蚀液为稀王水,所述稀王水是由王水与去离子水以体积比1:1-5进行混合制得,其中,制备所述稀王水的所述去离子水的电阻率在15兆以上。
6.如权利要求5所述的富铟磷化铟多晶料的循环利用方法,其特征在于,在所述第二步和所述第六步中,制备所述稀王水的所述去离子水的电阻率为15-18兆;采用化学腐蚀液腐蚀时间为8-10分钟。
7.如权利要求1所述的富铟磷化铟多晶料的循环利用方法,其特征在于,在所述第三步中,拉制InP多晶棒之前,还包括将富铟较轻InP多晶装入高压单晶炉,对富铟较轻InP多晶进行升温熔化。
8.如权利要求1所述的富铟磷化铟多晶料的循环利用方法,其特征在于,在所述第四步中,第一电学检测时,按照电学参数是否符合室温迁移率在4000以上,载流子浓度在5×1015以下,来分拣第一电学参数合格InP多晶和第一电学参数不合格InP多晶。
9.如权利要求1所述的富铟磷化铟多晶料的循环利用方法,其特征在于,在所述第七步中,InP多晶的水平合成过程还包括加入红磷。
10.如权利要求9所述的富铟磷化铟多晶料的循环利用方法,其特征在于,在所述第七步中,根据富铟程度以及水平合成过程中所用封闭石英管体积大小,在封闭前向石英管内加入红磷,其中,原料量与所述红磷的加入量的质量比为3.5:1-20:1。
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