[发明专利]透反射式集成装置及光谱仪系统

权利要求书

1.一种透反射式集成装置，其特征在于，包括：

发射模组，包括第一对离轴抛物面镜，用于通过所述第一对离轴抛物面镜发射出太赫兹波；

接收模组，包括第二对离轴抛物面镜，用于通过所述第二对离轴抛物面镜接收经样品反射或者透射后的太赫兹波；

发射支撑架，用于支撑所述发射模组；

接收支撑架，用于支撑所述接收模组；

承载台，用于盛放待测样品；

基底，所述基底具有中心轴，所述发射支撑架和所述接收支撑架可相对移动地设置在基底上，所述承载台具有放置样品的参照点，所述参照点位于所述基底的中心轴上；

所述第一对离轴抛物面镜包括第一离轴抛物面镜和第二离轴抛物面镜，所述发射支撑架包括第一支撑架和第二支撑架，所述第一离轴抛物面镜设置在第一支撑架上，所述第二离轴抛物面镜设置在第二支撑架上，所述第一离轴抛物面镜的抛物面开口与所述第二离轴抛物面镜的抛物面开口在竖直方向上相对设置；所述发射模组还包括光电导天线辐射端，所述光电导天线辐射端设置在所述第一支撑架上并处于所述第一离轴抛物面镜的焦点处；

所述第二对离轴抛物面镜包括第三离轴抛物面镜和第四离轴抛物面镜，所述接收支撑架包括第三支撑架和第四支撑架,所述第三离轴抛物面镜设置在所述第三支撑架上,所述接收模组还包括光电导天线探测端,所述光电导天线探测端和第四离轴抛物面镜相对设置在第四支撑架上，所述第三离轴抛物面镜的抛物面开口与所述第四离轴抛物面镜的抛物面开口在竖直方向上相对设置；所述第二离轴抛物面镜的焦点与所述第三离轴抛物面镜的焦点重合并位于所述基底的中心轴上；

所述第一支撑架和第二支撑架之间设置第一滑动部件，使得第一支撑架在第一滑动部件的带动下可以相对第二支撑架上下滑动,所述第二离轴抛物面镜与所述第二支撑架之间设置有第二滑动部件，所述第二离轴抛物面镜通过第二滑动部件设置在第二支撑架上，使得第二离轴抛物面镜在第二滑动部件的带动下在第二支撑架上滑动，所述光电导天线辐射端与所述第一支撑架之间设置有第三滑动部件，所述光电导天线辐射端通过第三滑动部件设置在第一支撑架上，使得光电导天线辐射端在滑动部件的带动下在第一支撑架上滑动以使其处于第一离轴抛物面镜的焦点处；及/或,

所述第三支撑架和第四支撑架之间设置第四滑动部件，使得第四支撑架在滑动部件的带动下可以相对第三支撑架上下滑动；所述第三离轴抛物面镜与所述第三支撑架之间设置有第五滑动部件，所述第三离轴抛物面镜通过第五滑动部件设置在第三支撑架上，使得第三离轴抛物面镜在滑动部件的带动下相对第三支撑架上下滑动；所述光电导天线探测端与所述第四支撑架之间设置有第六滑动部件，所述光电导天线探测端通过第六滑动部件设置在第四支撑架上，使得光电导天线探测端在第六滑动部件的带动下可以相对第四支撑架水平滑动，以调节光电导天线探测端的位置使其位于第四离轴抛物面镜的焦点处。

2.根据权利要求1所述的透反射式集成装置，其特征在于，

所述基底上设置有转动部件，所述发射支撑架和接收支撑架通过所述转动部件设置在所述基底上，使得所述发射支撑架和接收支撑架在所述转动部件的带动下围绕中心轴转动；

所述基底上设置有滑动部件，使得所述发射支撑架和接收支撑架在所述滑动部件的带动下水平滑动以调节发射支撑架和接收支撑架分别相距中心轴的距离；

所述基底上设置有圆形刻度线，所述圆形刻度线的圆心处在中心轴上。

3.根据权利要求1所述的透反射式集成装置，其特征在于，所述承载台上设置有转动部件，使得所述承载台在所述转动部件的带动下围绕中心轴转动；

所述承载台上设置有升降部件，所述承载台的高度在升降部件的作用下可变；

所述承载台上设置有圆形刻度线，所述圆形刻度线的圆心处在中心轴上。

4.根据权利要求1所述的透反射式集成装置，其特征在于，所述发射支撑架和接收支撑架的数量均不少于一个。

5.根据权利要求1所述的透反射式集成装置，其特征在于，所述发射模组和所述接收模组的数量均不少于一个。

6.一种光谱仪系统，包括光谱仪和计算机，其特征在于，还包括如权利要求1至5任一所述的透反射式集成装置。