[发明专利]一种具有高硬且疏水特性的保护涂层及制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201711108367.5 申请日: 2017-11-09
公开(公告)号: CN108085641B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 张侃;张玉基;戴萱;杨丽娜;文懋;郑伟涛 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/34
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 黄欢娣;邱启旺
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 制备 切削工具 疏水特性 氧化亚铜 钻探工具 溅射率 矿物资源 应用 薄膜表面 表面改性 地球深部 电子结构 精确调控 勘探开发 壳层电子 力学性能 能源资源 射频溅射 深海探测 疏水效果 水接触角 氧化过程 直流溅射 固溶体 固溶
【权利要求书】:

1.一种具有高硬且疏水特性的保护涂层的制备方法,其特征在于:采用共溅射法,以Ta和Cu作为靶源,其中Ta靶接通直流电源,Cu靶接通射频电源,Ar和N2作为放电气体,流速比为1.8:2.2~1,在衬底上沉积TaCuN薄膜,其中Cu靶材功率与Ta靶材的功率比为:2.5:100-6:100,溅射总压强为0.7-1.0Pa,控制沉积温度为室温,衬底施加的电压为-50至-200V;溅射结束后,置于有氧环境中,获得具有高硬且疏水特性的保护涂层。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,Ta靶材的功率为120-200W,Cu靶材的功率为5-15W,溅射总压强为0.8-0.9 Pa,衬底施加的电压为-120至-180V。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,TaCuN保护涂层和基底之间具有Ta金属过渡层,Ta金属过渡层的厚度为200-300nm。

4.一种权利要求1所述方法制备得到的保护涂层,其特征在于,所述保护涂层由立方相的TaCuN置换固溶体构成,且表层的固溶Cu与氧结合,形成满壳层电子结构的氧化亚铜;按原子数量计,钽与铜之比为50.1~41.3:1.9~7.8。

5.一种权利要求4所述保护涂层的应用,其特征在于,应用于切削工具,地球深部的矿物资源、能源资源的勘探开发,或深海探测技术钻探工具。

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