[发明专利]集成电路、设计集成电路的计算系统和计算机实施的方法

权利要求书

1.一种计算机实施的方法，包括：

基于定义集成电路的设计数据来放置标准单元；

基于对应于多个预定的定义的间隔约束，通过在所放置的标准单元上执行在四重图案化光刻(QPL)层中所包括的第一图案、第二图案、第三图案和第四图案的无色布线来生成所述集成电路的布局；

其中，每个预定的定义取决于相邻图案的特定位置关系、要分别分配给相邻图案的颜色的标识以及相邻图案之间的最小间隔，

其中，所述位置关系包括相邻图案设置在相同的轨道中、相邻图案平行设置或相邻图案垂直设置中的一种，

在颜色分解过程中，将第一颜色、第二颜色、第三颜色和第四颜色分别地分配给第一图案、第二图案、第三图案和第四图案；

将所生成的布局存储到计算机可读存储介质，

基于所述布局来生成掩膜；以及

通过使用所生成的掩膜来制造半导体器件，

其中，第一图案、第二图案、第三图案和第四图案中的两个图案之间的间隔小于间隔约束中的相对应的间隔约束指示颜色违规。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述掩膜包括第一掩膜、第二掩膜、第三掩膜和第四掩膜，并且第一颜色、第二颜色、第三颜色和第四颜色分别地对应于第一掩膜、第二掩膜、第三掩膜和第四掩膜。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，生成布局包括：接收包括所述间隔约束的技术文件以及基于所接收的技术文件来执行无色布线。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，第一图案和第二图案在第一方向上延伸并且在与第一方向垂直的第二方向上彼此相邻，以及

所述间隔约束包括第一间隔约束，所述第一间隔约束将第一图案与第二图案之间的最小间隔定义为第一图案、第二图案、第三图案和第四图案中被分配了不同颜色的图案之间的第一间隔。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述第一间隔是第一图案、第二图案、第三图案和第四图案中被分配了不同颜色的图案之间的最小边到边间隔。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述间隔约束还包括第二间隔约束，所述第二间隔约束定义了第一图案、第二图案、第三图案和第四图案中被分配了不同颜色的图案之间的最小角到角间隔。

7.根据权利要求4所述的方法，其中，所述四重图案化光刻层是双向层，

第三图案在第一方向上延伸并且在第一方向上与第一图案或第二图案对准；以及

所述间隔约束还包括第三间隔约束，所述第三间隔约束将第一图案或第二图案与第三图案之间的最小间隔定义为第一图案、第二图案、第三图案和第四图案中被分配了相同颜色的图案之间的第二间隔。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第二间隔是第一图案、第二图案、第三图案和第四图案中被分配了相同颜色的图案之间的最小端到端间隔。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第四图案在第二方向上延伸，并且

所述间隔约束还包括第四间隔约束，所述第四间隔约束将第四图案与第一图案至第三图案中的每个之间的最小间隔定义为第一图案、第二图案、第三图案和第四图案中被分配了相同颜色的图案之间的第三间隔。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述第三间隔是第一图案、第二图案、第三图案和第四图案中被分配了相同颜色的图案之间的最小端到边间隔。

11.根据权利要求4所述的方法，其中，所述四重图案化光刻层是单向层，

第三图案和第四图案在第一方向上延伸并且在第一方向上与第一图案和第二图案分别地对准；以及

所述间隔约束还包括第三间隔约束，所述第三间隔约束将第一图案与第三图案之间的最小间隔以及第二图案与第四图案之间的最小间隔定义为第一图案、第二图案、第三图案和第四图案中被分配了不同颜色的图案之间的第二间隔。