[发明专利]一种钻石研磨液水基清洗剂的制作方法在审
申请号: | 201711117501.8 | 申请日: | 2017-11-13 |
公开(公告)号: | CN109777641A | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 朱国宏 | 申请(专利权)人: | 朱国宏 |
主分类号: | C11D1/72 | 分类号: | C11D1/72;C11D3/60;C11D3/04;C11D3/12;C11D3/16;C11D3/30;C11D3/36;C11D3/37;C11D11/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 710000 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗剂 水基清洗剂 钻石研磨液 复配表面活性剂 表面活性剂 纳米消泡剂 水溶性纳米 二氧化硅 氢氧化钾 分散剂 缓蚀剂 专用的 胆胺 镀铬 弱酸 添加剂 清洗剂组成 完全溶解 制备 制作 | ||
1.一种钻石研磨液水基清洗剂的制作方法,其特征在于:所述钻石研磨液专用的水基清洗剂包括第一清洗剂和第二清洗剂,所述第一清洗剂的组分,按重量百分比计,包括:氢氧化钾3-10%、镀铬添加剂3-8%、胆胺1-5%、分散剂1-5%、复配表面活性剂3-7%,余量为水,所述镀铬添加剂为HEDP,所述胆胺为一胆胺,所述分散剂为聚马来酸盐,所述复配表面活性剂为RD129B。
2.根据权利要求1所述的一种钻石研磨液水基清洗剂的制作方法,其特征在于:所述第二清洗剂的使用在第一清洗剂之后。
3.根据权利要求1所述的一种钻石研磨液水基清洗剂的制作方法,其特征在于:所述第二清洗剂包括弱酸、缓蚀剂、表面活性剂、纳米消泡剂和水溶性纳米二氧化硅,所述第二清洗剂的组分,按重量百分比计,包括:弱酸2-10%、缓蚀剂0.5-2%、表面活性剂5-10%、纳米消泡剂0.5-3%和水溶性纳米二氧化硅1-5%,余量为水,所述弱酸为亚硫酸钠、缓蚀剂为乙醇胺,所述表面活性剂为烷基基酚聚氧乙烯醚,所述纳米消泡剂为纳米硅醚消泡剂。
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