[发明专利]一种新型反应釜

说明书

技术领域

本发明涉及化工设备技术领域，尤其是涉及一种新型反应釜。

背景技术

在化工反应过程中，会将各个原料进行调配并放入反应釜中进行反应，为了使原料混合均匀以保证产品纯度和产量，反应釜中均配置有相应的搅拌组件，使得在原料充分反应。由于搅拌叶片大小的问题或者搅动幅度的问题，很容易导致搅拌不均匀，导致原料沉积在釜壁上，又由于常用反应釜多比较深，不易清除，长时间沉积造成釜壁污垢越来越厚，严重影响混合液的纯度和合成产品的纯度，影响反应釜的正常的使用和工作效率。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种新型反应釜，还包括支架、釜体、电机、由所述电机驱动的搅拌轴，所述釜体由半球型下釜体和半球型釜盖组成，所述下釜体两侧设有延伸把，所述延伸把固定于所述支架上，所述搅拌轴下端连接与所述下釜体相配合的搅拌部。其中，所述搅拌部由横向搅拌杆和半圆形弧形杆组成，所述弧形杆外侧固定摩擦带。

进一步的，所述横向搅拌杆与所述弧形杆一体注塑成型。

进一步的，所述弧形杆的直径小于所述下釜体的直径。

进一步的，所述弧形杆的外侧表面与所述下釜体内壁稍贴合。

进一步的，所述摩擦带为软质橡胶材质。

进一步的，所述弧形杆上与摩擦带上设有相配合的固定孔，通过螺栓螺母副固定。

进一步的，在所述釜盖顶部设有压力表。

进一步的，在所述釜盖顶部设有温度表。

进一步的，还包括控制器，所述控制器与所述电机电连接。

本发明具有的优点和有益效果是：本发明的反应釜由两个半球型釜体和釜盖组成，清洁更加简便，效果更明显；搅拌部的下端设置为与下釜体稍贴合的弧形杆，釜体中间以及釜壁周围的原液均得到相同频率相同力度的搅拌，避免搅拌不匀造成未参与反应原料沉积于釜壁；搅拌部外侧固定有橡胶材质的摩擦带，在搅拌过程中能够对釜壁进行周向扫动，同时避免了反应原料的沉积，减小了对釜体清洁的难度，同时使得搅拌更均匀，反应更完全。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图2是本发明中搅拌装置的结构示意图。

其中：1、支架2、下釜体3、釜盖4、控制器5、电机6、搅拌轴7、搅拌部71、横向搅拌杆72、弧形杆8、摩擦带9、加料口10、出料口11、温度表12、压力表

具体实施方式

下面结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明。

如图1-图2所示，本发明提供了一种新型反应釜，包括支架1、釜体、电机5、由所述电机5驱动的搅拌轴6，所述釜体由半球型下釜体2和半球型釜盖3组成，所述下釜体2两侧设有延伸把，所述延伸把固定于所述支架1上，反应釜的加料口9和出料口10均位于所述釜盖3顶部，在所述釜盖3中间的上方固定有电机5，所述搅拌轴6的顶端与所述电机5的输出轴固定连接，还包括控制器4，所述控制器4与所述电机5电连接，控制电机5的转动速率，即控制搅拌速率。

所述搅拌轴6另一端延伸至所述下釜体2内，所述搅拌轴6下端连接与所述下釜体2相配合的搅拌部7。如图2所示，所述搅拌部7由横向搅拌杆71和半圆形弧形杆72组成，所述横向搅拌杆71与所述弧形杆72一体注塑成型，以保证搅拌部7整体的牢固性，保证其使用寿命。所述弧形杆72的直径小于所述下釜体2的直径。所述弧形杆72的外侧表面与所述下釜体2内壁稍贴合，能够对釜体中间和釜壁周围的原料均进行相同力度相同速率的搅拌，避免搅拌不匀造成未参与反应原料沉积于釜壁。

所述弧形杆72外侧固定摩擦带8，其为软质橡胶材质，所述摩擦带8能够对釜壁进行周向扫动，既将沉积在釜壁上的原料清理至搅拌液中进行反应，保证反应能够完全进行，也简单了清洁操作。进一步的，所述弧形杆72上与摩擦带8上设有相配合的固定孔，通过螺栓螺母副固定，防止长时间与釜壁摩擦造成摩擦带8的掉落。

进一步的，在所述釜盖3顶部设有压力表11，即时检测釜内蒸汽压力，以即时调整加热功率，保证釜体和人身的安全。

进一步的，在所述釜盖3顶部设有温度表12，即时监测蒸汽温度，适时调整加热功率以及保证釜体和人参安全。

以上对本发明的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本发明的较佳实施例，不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本发明的专利涵盖范围之内。