[发明专利]基片的预对准方法有效
申请号: | 201711122043.7 | 申请日: | 2017-11-14 |
公开(公告)号: | CN107908086B | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 朱鹏飞;浦东林;朱鸣;邵仁锦;吕帅;张瑾;袁晓峰;陈林森 | 申请(专利权)人: | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人: | 唐静芳 |
地址: | 215000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对准 方法 | ||
1.一种基片的预对准方法,其特征在于,包括以下步骤:
将所述基片置于工件台上,以所述工件台为基准面建立坐标系,设定所述坐标系的x轴方向及y轴方向,使直写镜头与所述基片之间的距离处于成像焦距内;
在所述基片上呈现特征图像和测距图像,通过一个CCD相机获得至少五个边缘点的坐标,其中,所述测距图像为光栅条纹图像,至少两个所述边缘点位于同一个所述边缘上的不同部位,其中四个所述边缘点分别取自不同的四个所述边缘上;
根据位于同一所述边缘上的两个所述边缘点的坐标确定所述基片的倾斜角度;
根据所述倾斜角度,将所述基片转正,获得转正后所述基片的中心坐标。
2.一种基片的预对准方法,其特征在于,包括以下步骤:
将所述基片置于工件台上,以所述工件台为基准面建立坐标系,设定所述坐标系的x轴方向及y轴方向,使直写镜头与所述基片之间的距离处于成像焦距内;
在所述基片上呈现特征图像和测距图像,通过一个CCD相机获得两个边缘点的坐标,所述测距图像为光栅条纹图像,两个所述边缘点位于同一个所述边缘上的不同部位;根据位于同一所述边缘上的两个所述边缘点的坐标确定所述基片的倾斜角度;
通过所述特征图像和测距图像在所述基片的其他至少三个所述边缘上确定所述边缘点的坐标;
根据所述倾斜角度,将所述基片转正,获得转正后所述基片的中心坐标。
3.如权利要求1或2所述的基片的预对准方法,其特征在于,所述镜头在所述坐标系内投射形成有投射点,获取所述边缘点的坐标包含如下步骤:
在所述基片的表面呈现特征图像,通过CCD图像采集系统识别所述特征图像;
移动所述工件台使所述基片相对所述镜头的一侧移动,当所述特征图像部分超出所述边缘时,停止移动所述工件台,并记录此时所述投射点坐标;
在所述基片的边缘附近呈现测距图像,并识别所述测距图像,得出所述边缘上的一边缘点与所述投射点的直线距离D;
根据所述投射点坐标及直线距离D,得出所述边缘点在所述坐标系中的坐标。
4.如权利要求1或2所述的基片的预对准方法,其特征在于,获取转正后所述基片的中心坐标包含如下步骤:
根据所述倾斜角度,将所述基片转正,并得出转正之后在四个不同所述边缘上的四个所述边缘点在所述工件台坐标系中的新坐标,根据四个所述新坐标确定所述基片的中心坐标,移动所述工件台至所述基片的中心位置。
5.如权利要求1或2所述的基片的预对准方法,其特征在于,所述工件台为矩形,所述x轴方向平行于所述工件台的两相对边,所述y轴方向平行于所述工件台的另外两相对边。
6.如权利要求1或2所述的基片的预对准方法,其特征在于,所述特征图像和测距图像通过空间光调制器形成,所述特征图像和测距图像的尺寸小于或等于所述空间光调制器的有效显示区域的尺寸。
7.如权利要求1或2所述的基片的预对准方法,其特征在于,所述测距图像为光栅条纹图像。
8.如权利要求7所述的基片的预对准方法,其特征在于,所述光栅条纹图像中的光栅条纹垂直所述工件台的移动方向。
9.如权利要求6所述的基片的预对准方法,其特征在于,所述光栅条纹图像成像在有效显示区域内的条纹间距为微米量级。
10.如权利要求1或2所述的基片的预对准方法,其特征在于,CCD图像采集系统具有图像特征检测算法,当至少部分所述特征图像在所述CCD图像采集系统中缺失时,所述图像特征检测算法给出评价分值。
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