[发明专利]一种材料法向光谱发射率测量装置

权利要求书

1.一种材料法向光谱发射率测量装置，其特征在于，具备：

腔体，

设置于所述腔体内的两个相对称且开口相向的部分椭圆形状的反射罩、两个红外加热器、和样品，两个所述反射罩具有一个共用焦点，所述样品设于所述共用焦点处，所述两个红外加热器分别设于两个所述反射罩的非共用焦点处且使所述两个加热器发出的光经各自反射罩反射后聚焦到所述样品；

设置于与所述样品正对的所述腔体的顶部或/和底部的观测窗口；

设置于所述腔体外与所述观测窗口对应位置处的光学系统；

与所述光学系统连用的傅立叶红外光谱仪；

与所述傅立叶红外光谱仪连接的计算机；

用于对所述腔体内抽真空的抽真空装置。

2.根据权利要求1所述的材料法向光谱发射率测量装置，其特征在于，还包括与所述腔体的壁连通的循环水冷装置。

3.根据权利要求1所述的材料法向光谱发射率测量装置，其特征在于，所述光学系统包括依次设置于所述腔体外的可变光阑和反射镜，所述反射镜的表面涂有高反射率涂层。

4.根据权利要求3所述的材料法向光谱发射率测量装置，其特征在于，所述傅立叶红外光谱仪的中心与所述反射镜的中心和所述样品的中心等高。

5.根据权利要求1所述的材料法向光谱发射率测量装置，其特征在于，所述红外加热器选用卤钨灯管作为红外光源。

6.根据权利要求1所述的材料法向光谱发射率测量装置，其特征在于，所述观测窗口的两侧除了观测窗口以外的整个腔体内部涂有高吸收率涂层，所述观测窗口根据测量光谱波段范围选择。

7.根据权利要求1所述的材料法向光谱发射率测量装置，其特征在于，所述反射罩的内表面镀有高反射率涂层。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的材料法向光谱发射率测量装置，其特征在于，所述样品内接控温装置，将热电偶丝一端插入所述样品的中部，另一端通过导线连接温度控制器。