[发明专利]用于相机系统的薄陶瓷成像屏幕

权利要求书

1.一种用于成像的装置，所述装置包括：

成像屏幕，所述成像屏幕被配置为漫射入射光；以及

透镜系统，所述透镜系统耦合至所述成像屏幕并且被配置为将来自所述成像屏幕的光聚焦到CMOS图像传感器上，

其中：

所述成像屏幕包括被直接地融合到玻璃基板的表面之中的陶瓷漫射器层以使得所述陶瓷漫射器层与所述玻璃基板之间不存在间隙，并且

所述陶瓷漫射器层的厚度在7-10μm的范围之内。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述陶瓷漫射器层包括基于铋的玻璃熔料以及包括二氧化硅(SiO2)、氧化锌(ZnO)、三氧化二硼(B2O3)、氧化钠(Na2O)和氧化铋(BiO2)中的一个的至少一种无机颜料。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述陶瓷漫射器层的热膨胀系数CTE具有处于所述玻璃基板的CTE值的8％之内的值。

4.根据权利要求1所述的装置，进一步包括使用包括碱石灰浮法玻璃材料的玻璃层耦合至所述成像屏幕并且包围所述成像屏幕的不锈钢壳体。

5.根据权利要求4所述的装置，其中，所述陶瓷漫射器层的热膨胀系数CTE具有处于所述不锈钢壳体的CTE值的10-20％之内的值，并且其中，所述玻璃基板的CTE值处于所述不锈钢的CTE值的6-7％之内。

6.根据权利要求1所述的装置，其中，所述成像屏幕被配置为在预定操作温度范围内是热稳定的，从而允许形成于所述CMOS图像传感器上的图像的像素至像素分离的热稳定性。

7.根据权利要求1所述的装置，进一步包括耦合至所述CMOS图像传感器的处理器，其中，所述处理器被配置为处理所述CMOS图像传感器的输出信号以确定光学电路开关的MEMS反射镜阵列的相应反射镜的位置。

8.根据权利要求1所述的装置，其中，所述玻璃基板包括碱石灰浮法玻璃基板，并且其中，所述碱石灰浮法玻璃基板包括低铁玻璃基板。

9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述玻璃基板的表面平整度特征为在633nm的波长λ处的λ/4的峰谷值。

10.一种用于监视微机电系统MEMS反射镜的相机系统，所述相机系统包括：

漫射器，所述漫射器包括被直接地融合到玻璃基板的第一表面之中的陶瓷漫射器层以使得所述陶瓷漫射器层与所述玻璃基板之间不存在间隙；

光学块，所述光学块被配置为集中由所述漫射器发射的光；

图像传感器，所述图像传感器被配置为接收来自所述光学块的集中的光并且生成电信号；以及

处理器，所述处理器耦合至所述图像传感器并且被配置为基于所述电信号产生从所述MEMS反射镜反射的光束的图像，

其中，所述陶瓷漫射器层的热膨胀系数CTE具有处于所述玻璃基板的CTE值的8％之内的值。

11.根据权利要求10所述的相机系统，其中，所述陶瓷漫射器层的厚度在7-10μm的范围之内。

12.根据权利要求10所述的相机系统，其中，所述陶瓷漫射器层包括基于铋的玻璃熔料以及包括二氧化硅(SiO2)、氧化锌(ZnO)、三氧化二硼(B2O3)、氧化钠(Na2O)和氧化铋(BiO2)中的一个的至少一种无机颜料。

13.根据权利要求10所述的相机系统，进一步包括：使用包括碱石灰浮法玻璃的玻璃层耦合至所述漫射器并且包围所述漫射器的不锈钢壳体，并且其中，所述陶瓷漫射器层的热膨胀系数CTE具有处于所述不锈钢壳体的CTE值的10-20％之内的值，并且其中，所述玻璃基板的CTE值处于所述不锈钢的CTE值的6-7％之内。