[发明专利]一种半导体功率器件子模组及其生产方法及压接式IGBT模块在审
申请号: | 201711129294.8 | 申请日: | 2017-11-15 |
公开(公告)号: | CN108063096A | 公开(公告)日: | 2018-05-22 |
发明(设计)人: | 王亮;武伟;林仲康;田丽纷;韩荣刚;唐新灵;石浩;张朋;李现兵;张喆 | 申请(专利权)人: | 全球能源互联网研究院有限公司;国网山东省电力公司电力科学研究院;国家电网公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L29/739;H01L23/488;H01L23/373 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 刘林涛 |
地址: | 102209 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 功率 器件 模组 及其 生产 方法 压接式 igbt 模块 | ||
1.一种半导体功率器件子模组的生产方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1.在钼片(1)的镀银面(11)上沉积AgSn薄膜焊膏;
S2.将芯片(2)通过卡具贴装在所述AgSn薄膜焊膏表面,形成待烧结结构。
2.根据权利要求1所述的半导体功率器件子模组的生产方法,其特征在于,在所述步骤S1中,采用真空离子溅射方式将所述AgSn薄膜焊膏沉积在所述钼片(1)上。
3.根据权利要求2所述的半导体功率器件子模组的生产方法,其特征在于,所述AgSn薄膜焊膏的厚度为3μm-30μm。
4.根据权利要求1所述的半导体功率器件子模组的生产方法,其特征在于,还包括步骤:S3.将所述待烧结结构置于真空烧结炉中进行烧结。
5.根据权利要求4所述的半导体功率器件子模组的生产方法,其特征在于,在所述步骤S3中,包括如下步骤:
a.升温至第一预定温度,所述第一预定温度为160℃-190℃;
b.待温度稳定至第一预定温度后,注入甲酸,保温10-12min;
c.继续升温,将温度升高至第二预定温度,所述第二预定温度为250℃-300℃,待温度稳定后保温10-15min;
d.降温至室温。
6.一种半导体功率器件子模组,其特征在于,采用权利要求1-5任一所述的生产方法制作而成,其包括:
钼片(1);
芯片(2),与所述钼片(1)相对的一面设有第一电极并设有AgSn薄膜焊膏,所述芯片(2)异于所述AgSn薄膜焊膏的一侧设有第二电极;
下垫片(3),与所述第二电极相贴合;
以及,
绝缘框架(4),用以容纳所述钼片(1)、所述芯片(2)和所述下垫片(3)。
7.根据权利要求6所述的半导体功率器件子模组,其特征在于,还包括:
第三电极,设置在所述芯片(2)上位于所述第二电极的一侧;
栅极探针(5),与所述芯片(2)垂直设置并一端与所述第三电极相接触。
8.根据权利要求7所述的半导体功率器件子模组,其特征在于,所述芯片(2)上设有拐角,所述栅极探针(5)嵌入所述拐角中并与所述芯片(2)相垂直。
9.一种压接式IGBT模块,其特征在于,包括:
权利要求6-8任一所述的半导体功率器件子模组;
PCB板,设置在靠近所述下垫片(3)的一端,所述PCB板设有与所述栅极探针(5)一端相连接的栅极端子;
集电极,设置在靠近所述半导体功率器件子模组的所述钼片(1)的一侧。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于全球能源互联网研究院有限公司;国网山东省电力公司电力科学研究院;国家电网公司,未经全球能源互联网研究院有限公司;国网山东省电力公司电力科学研究院;国家电网公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711129294.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造