[发明专利]一种清洁装置有效

专利信息
申请号: 201711129956.1 申请日: 2017-11-15
公开(公告)号: CN107899976B 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 王勇;安予生;蒋盛超;孟庆勇 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: B08B1/00 分类号: B08B1/00;B08B3/08;B08B13/00
代理公司: 11274 北京中博世达专利商标代理有限公司 代理人: 申健<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 230012 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 清洁 装置
【说明书】:

发明公开一种清洁装置,涉及显示面板制造技术领域。为解决如何在采用清洁布清洁基板时避免清洁布被重复利用、提高清洁布的利用率、降低清洗液的消耗量、提高清洁效率的问题而发明。本发明的清洁装置包括壳体,壳体包括由壳体剖分后形成的至少两个壳体单元,相邻两个壳体单元之间可拆卸连接,壳体内设有存放装置、回收装置和供液装置,壳体上设有开口,开口内设有引导头,存放装置存放有清洁布,清洁布由存放装置抽出并由开口伸出壳体外,且绕过引导头后由开口伸入壳体内并连接于回收装置上,回收装置用于牵引清洁布移动到回收装置以回收清洁布,供液装置用于向绕设于引导头处的清洁布上供给清洗液。本发明的清洁装置用于清洁基板上的点状污渍。

技术领域

本发明涉及显示面板制造技术领域,尤其涉及一种清洁装置。

背景技术

在显示面板的制造过程中,在基板上设置像素层、保护膜或者偏光片等之前,均需对基板进行清洁,以去除基板上的点状灰尘,从而保证显示面板的成型质量。

目前,生产线上通常采用人工使用清洁布擦拭的方法清洁基板上的点状灰尘,在擦拭之前,为了减小清洁布与基板之间的接触面积,同时为了防止清洁布被重复利用,通常将清洁布叠成特殊形状,以依次利用清洁布上的不同区域进行擦拭,由此减小了单次擦拭时清洁布与基板之间的接触面积,同时防止了清洁布上同一区域被重复利用。

但是,手工叠出的清洁布通常因每次擦拭时所使用的清洁布区域面积较大,而导致清洁布的利用率较低,且每次擦拭时均需蘸取能够浸湿多层清洁布的清洗液,因此清洗液的消耗量较大,而且人工蘸取清洗液和更换清洁布擦拭区域的操作过程复杂,导致清洁效率较低。而且,在生产线忙碌时,经常会因清洁布擦拭区域未能得到及时更换而导致清洁布被重复使用,这不仅会降低基板的清洁良率,也会带来二次污染的问题。

发明内容

本发明提供一种清洁装置,能够在一定程度上避免清洁布重复利用,提高清洁布的利用率,降低清洗液的消耗量,提高清洁效率。

为达到上述目的,本发明提供了一种清洁装置,包括壳体,所述壳体包括由所述壳体剖分后形成的至少两个壳体单元,相邻两个所述壳体单元之间可拆卸连接,所述壳体内设有存放装置、回收装置和供液装置,所述壳体上设有开口,所述开口内设有引导头,所述存放装置存放有清洁布,所述清洁布由所述存放装置抽出并由所述开口伸出所述壳体外,且绕过所述引导头后由所述开口伸入所述壳体内并连接于所述回收装置上,所述回收装置用于牵引所述清洁布移动到所述回收装置以回收所述清洁布,所述供液装置用于向绕设于所述引导头处的清洁布上供给清洗液。

进一步的,所述存放装置包括固定于所述壳体内的存放腔体以及设置于所述存放腔体内的第一卷轴,所述清洁布存放于所述存放腔体内,并卷绕于所述第一卷轴上,且所述存放腔体的侧壁上开设有出料缺口,所述清洁布由所述出料缺口处抽出所述存放腔体。

优选的,至少两个所述壳体单元包括分别构成所述存放腔体的相对两侧壁的两个壳体单元,所述第一卷轴的两端分别连接于两个所述壳体单元上,且当两个所述壳体单元彼此拆开时,所述第一卷轴的至少一端可与对应的所述壳体单元脱离。

进一步的,所述回收装置包括回收腔体、第二卷轴和旋转驱动件,所述回收腔体固定于所述壳体内,所述第二卷轴旋转铰接于所述回收腔体内,所述旋转驱动件用于驱动所述第二卷轴以自身为轴旋转,所述回收腔体的侧壁上开设有进料缺口,由所述开口进入所述壳体内的清洁布在穿过所述进料缺口后,再缠绕于所述第二卷轴上。

优选的,至少两个所述壳体单元包括分别构成所述回收腔体的相对两侧壁的两个壳体单元,所述第二卷轴的两端分别连接于两个所述壳体单元上,且当两个所述壳体单元彼此拆开时,所述第二卷轴的至少一端可与对应的所述壳体单元脱离。

优选的,所述第二卷轴的侧壁上开设有凹槽,所述凹槽内可拆卸连接有夹持件,所述清洁布的端部夹持于所述凹槽的内壁与所述夹持件之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711129956.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top