[发明专利]一种表面增强拉曼基底及其制备方法

权利要求书

1.一种表面增强拉曼基底，应用于检测液体样品，其特征在于，所述表面增强拉曼基底包括衬底、金膜和金纳米立方体；

所述衬底采用硅材料形成，所述金膜设置在所述衬底上，所述金纳米立方体设置在所述金膜上，所述金纳米立方体呈矩阵排布，所述金纳米立方体之间具有间隙，所述间隙用于注入待测的液体样品。

2.根据权利要求1所述的表面增强拉曼基底，其特征在于，所述金纳米立方体的边长为50nm，相邻两个所述金纳米立方体之间的所述间隙的宽度为30nm。

3.根据权利要求2所述的表面增强拉曼基底，其特征在于，所述金纳米立方体远离所述金膜的一端具有圆角。

4.根据权利要求3所述的表面增强拉曼基底，其特征在于，所述圆角的半径为1nm。

5.根据权利要求1所述的表面增强拉曼基底，其特征在于，所述衬底为长方体结构，所述衬底的长2000nm，所述衬底的宽为2000nm，所述衬底的高为110nm。

6.根据权利要求5所述的表面增强拉曼基底，其特征在于，所述金膜的长2000nm，所述金膜的宽为2000nm，所述金膜的厚度为40nm。

7.一种表面增强拉曼基底的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

采用硅材料形成衬底；

在所述衬底表面淀积钛层，并在所述钛层上镀金膜；

通过金属剥离方法在所述金膜的表面形成矩阵排布的金纳米立方体，所述金纳米立方体之间具有间隙，所述间隙用于注入待测的液体样品。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述金纳米立方体的边长为50nm，相邻两个所述金纳米立方体之间的所述间隙的宽度为30nm。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述金纳米立方体远离所述金膜的一端具有圆角。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述圆角的半径为1nm。