[发明专利]真空吸引设备和包括真空吸引设备的电子设备有效

专利信息
申请号: 201711141783.5 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN108071658B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 姜润锡;南敏赫 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: F16B47/00 分类号: F16B47/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 杨姗
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 真空 吸引 设备 包括 电子设备
【权利要求书】:

1.一种真空吸引设备,包括:

吸盘,包括凹内表面;

卡合构件,从所述吸盘的外表面延伸;

盖构件,与所述吸盘的所述外表面啮合;

容纳凹部,形成在所述盖构件的内表面上;

通气孔,从所述吸盘的凹内表面穿透到所述吸盘的所述外表面;以及

阀构件,固定在所述盖构件的所述内表面上,同时设置在所述吸盘的外表面上,

其中,随着所述吸盘的所述凹内表面形成的空间的压力减小,所述阀构件从所述吸盘的外表面关闭所述通气孔,以及

所述卡合构件的一部分可移动地容纳在所述容纳凹部中。

2.根据权利要求1所述的真空吸引设备,还包括:安装凹部,形成在所述吸盘的外表面上并与所述通气孔的一个端部连接,

其中所述阀构件通过紧密接触所述安装凹部来关闭所述通气孔。

3.根据权利要求2所述的真空吸引设备,其中,所述安装凹部的内周面是具有预定曲率的曲面,并且所述阀构件的外周面成形为至少部分地与所述安装凹部的内周面相对应。

4.根据权利要求3所述的真空吸引设备,其中,在所述阀构件关闭所述通气孔的情况下,所述阀构件的外周面与所述安装凹部的内周面相对应的一部分从所述安装凹部向外露出。

5.根据权利要求3所述的真空吸引设备,其中,所述阀构件相对于所述吸盘旋转,同时所述阀构件的外周面与所述安装凹部的内周面滑动接触。

6.根据权利要求1所述的真空吸引设备,还包括:安装凹部,形成在所述吸盘的外表面上的所述通气孔的一个端部处,

其中所述阀构件通过紧密接触所述安装凹部来关闭所述通气孔。

7.根据权利要求6所述的真空吸引设备,其中,所述安装凹部的内周面是具有预定曲率的曲面,并且所述阀构件的外周面成形为至少部分地与所述安装凹部的内周面相对应。

8.根据权利要求1所述的真空吸引设备,其中,所述容纳凹部在所述盖构件的内表面上成形为闭合曲线,并且所述阀构件固定在被所述容纳凹部包围的区域中。

9.根据权利要求1所述的真空吸引设备,其中所述卡合构件包括:

延伸部,从所述吸盘的外表面延伸;以及

凸缘部,在相对于所述延伸部倾斜的同时从所述延伸部的端部弯曲,以及

其中至少所述凸缘部容纳在所述容纳凹部中。

10.一种电子设备,包括根据权利要求1至9中任一项所述的真空吸引设备。

11.根据权利要求10所述的电子设备,还包括外壳,

其中所述吸盘设置在所述外壳的底表面上,并且所述阀构件安装在所述外壳中以介于所述外壳和所述吸盘之间。

12.根据权利要求11所述的电子设备,其中所述吸盘通过至少所述外壳的重量而变形,并且所述吸盘的内部空间收缩。

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