[发明专利]一种多层六方氮化硼的制备方法

权利要求书

1.一种多层六方氮化硼的制备方法，包括如下步骤：将含硼元素的化合物和含氮元素的化合物和/或含硼元素和氮元素的化合物通过泡沫材料催化进行化学气相沉积反应，沉积在衬底上，即得到多层六方氮化硼。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：构成所述泡沫材料的元素选自如下至少一种：铜、镍、铁、铝、钴、铁、铬、镁、锰、钼、钌、钛、铑、钨和钽；

所述泡沫材料的孔径为0.01mm～1mm；

所述泡沫材料的每英寸孔数为10～1000。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于：所述含硼元素的化合物包括乙硼烷和氯化硼、溴化硼和碘化硼中的至少一种；

所述含氮元素的化合物包括氨气；

所述含硼元素和氮元素的化合物包括氨硼烷和/或环硼氮烷；所述衬底采用的材料为过渡金属；

所述衬底的厚度为0.1μm～2000μm。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的制备方法，其特征在于：所述卤化硼为氯化硼、氟化硼和溴化硼中的至少一种；

所述过渡金属选自铜、铝、镍、钴、铁、铂、金、铬、镁、锰、钼、钌、钽、钛、铑和钨中的至少一种。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的制备方法，其特征在于：所述化学气相沉积反应中，采用的载气为氢气、氩气和氮气中的至少一种；

所述载气的流速为0.1sccm～3000sccm。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的制备方法，其特征在于：在所述载气气流中，所述泡沫材料和所述衬底靠近放置，所述泡沫材料与所述衬底之间的距离为0～10cm。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的制备方法，其特征在于：进行所述化学气相沉积反应时，体系压强为1Pa～10⁵Pa；

所述化学气相沉积反应的温度为800℃～1500℃；

所述化学气相沉积反应的时间为1min～200min。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的制备方法，其特征在于：所述方法中还包括在进行所述化学气相沉积反应之后降温的步骤；

由所述化学气相沉积反应的温度降温至室温的降温速率为1～200C/min。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的制备方法，其特征在于：所述方法还包括在所述化学气相沉积反应之前将所述泡沫材料和衬底进行退火的步骤。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于：所述退火的温度为800℃～1500℃；

所述退火的时间为5min～75min；

由室温升至所述退火温度的时间为10～60min。