[发明专利]掩膜板的显影图形精度控制方法及其显影装置

权利要求书

1.一种掩膜板的显影图形精度控制方法，其特征在于，包括：

在显影过程中，使用两个光源发出的平行光照射掩膜板表面；所述显影过程具有确定的若干个显影参数；

在预定的观察角度，获取掩膜板表面的扫描纹路随显影时间的变化规律；

根据所述变化规律，确定与所述显影过程对应的显影时长。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述扫描纹路变化规律为：浮现初始扫描纹路、出现扫描纹路影像、出现残缺渐变图像以及出现显影图形。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述显影过程包括第一阶段至第五阶段；

当浮现初始扫描纹路表示第一阶段完成；当出现扫描纹路影像表示第二阶段完成、当出现残缺渐变图像表示第三阶段完成；当出现显影图形表示第四阶段完成；所述第五阶段为显影补偿时间。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述变化规律，确定与所述显影过程对应的显影时长，具体包括：

通过与测试图形的对比实验，确定第五阶段的显影时长。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述对比实验为：

保持显影参数不变，获得若干个测试图形及对应的显影时长；

比较目标图形与所述测试图形之间的差异；

根据所述差异，确定所述第五阶段的显影时长。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第五阶段的显影时长约为光刻胶表面接触到显影液体至光刻胶表面所有扫描纹路全部消失所用总时长的十分之一。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述显影参数包括曝光能量、药液浓度、温度或者光刻胶类型。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述光刻胶的类型为TFP650TFP1350、AZ1500、IP3600。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：

将光刻胶旋涂在衬底表面，形成均匀的光刻胶层；

在所述光刻胶层上覆盖掩膜板；

以逐条扫描的方式曝光所述光刻胶。

10.一种用于执行如权利要求1-9任一所述的显影图形精度控制方法的显影装置，其特征在于，包括：两个平行光源以及药液槽；

所述平行光源垂直设置在所述药液槽的上方，用于输出平行光；所述药液槽内装有显影药液；

所述显影药液没过掩膜板表面，所述平行光照射后在所述掩膜板表面形成显示扫描纹路的潜影区。