[发明专利]用于退除玻璃NCVM膜层的退镀液及退镀工艺和玻璃制品

说明书

本发明公开了一种用于退除玻璃NCVM膜层的退镀液及退镀工艺和玻璃制品，涉及盖板玻璃退镀技术领域，退镀液按质量百分含量包括如下组分：50‑70％浓度的硝酸15～25％，羧基酸类络合剂2～5％，氨基磺酸10～15％，渗透剂1～3％，其余为水。该退镀工艺常温下使用上述退镀液对NCVM镀膜并丝印油墨后的玻璃进行退镀。本发明缓解了传统使用高温、强碱性退镀液在退镀过程中容易对产品NCVM膜层造成过退，丝印油墨容易出现牙缺、麻点等缺陷的技术问题。本发明的退镀液在常温即可有效退除NCVM膜层，不容易发生过退现象，也不会损伤丝印油墨，避免了丝印油墨发生牙缺、麻点等问题，使用该退镀液退镀后的玻璃外观良好。

技术领域

本发明涉及盖板玻璃退镀技术领域，具体而言，涉及一种用于退除玻璃NCVM膜层的退镀液及退镀工艺和玻璃制品。

背景技术

随着社会的进步，2D、2.5D或3D玻璃已经应用于各种电子产品上，成为一种时尚，与传统塑料和金属手机电池盖相比，2D、2.5D或3D玻璃有轻薄、透明洁净、抗指纹、防眩光、耐刮伤和耐候性等优点。在玻璃上电镀LOGO已成为一种时尚，盖板玻璃电镀LOGO工艺包括：产品清洗—电镀NCVM—丝印油墨—退镀—清洗—检验，即先在玻璃上镀一层NCVM膜，然后丝印好图案后选择性去掉一部分，从而赋予镀膜层图案化效果，形成LOGO。NCVM膜的成分为：氧化硅、氧化铟和氧化钛等复合膜层，厚度通常在45μm左右，NCVM膜是通过NCVM(Non-Conductive Vacuum Metalize，真空不导电电镀)而成，为一种非导电的真空金属化镀膜制程，NCVM采用特殊金属，采用该工艺不仅使镀上的薄膜具有金属光泽，而且该薄膜具备非导电性质，不容易干扰信号，采用镀出金属及绝缘化合物等薄膜，利用各相不连续之特性，达到最终产品外观有金属质感且不影响到无线通讯传输的效果。

传统对于NCVM膜层的退除采用的是强碱性的退镀液，而且在退镀时往往需要在较高温度下进行，但使用高温、强碱性退镀液在退镀过程中容易对产品电镀LOGO(NCVM膜层)造成过退，丝印油墨容易出现牙缺、麻点等问题，影响产品外观质量。

有鉴于此，特提出本发明。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种用于退除玻璃NCVM膜层的退镀液，该退镀液在常温即可有效退除NCVM膜层，造成过退几率小，也不会损伤丝印油墨，避免了丝印油墨发生牙缺、麻点等问题，使用该退镀液退镀后的玻璃外观良好。

本发明的目的之二在于提供一种用于退除玻璃NCVM膜层的退镀工艺，该工艺使用上述退镀液对玻璃的NCVM膜层进行退镀，具有与上述退镀液相同的优势，在常温下使用该退镀液即可有效退除NCVM膜层，造成过退几率小，也不会损伤丝印油墨，退镀后的玻璃外观良好，良率高。此外，该退镀工艺条件要求较低、操作简便，得到的产品良率稳定。

本发明的目的之三在于提供一种包含采用上述退镀液或采用上述退镀工艺退镀后的玻璃的玻璃制品。

为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：

第一方面，本发明提供了一种用于退除玻璃NCVM膜层的退镀液，所述退镀液按质量百分含量包括如下组分：50-70％浓度的硝酸15～25％，羧基酸类络合剂2～5％，氨基磺酸10～15％，渗透剂1～3％，其余为水。

优选地，在本发明提供的技术方案的基础上，所述退镀液按质量百分含量包括如下组分：50-70％浓度的硝酸20～25％，羧基酸类络合剂2～5％，氨基磺酸12～15％，渗透剂1～3％，其余为水。

优选地，在本发明提供的技术方案的基础上，所述退镀液按质量百分含量包括如下组分：50-70％浓度的硝酸20～25％，羧基酸类络合剂3～5％，氨基磺酸12～14％，渗透剂1～2％，其余为水。

优选地，在本发明提供的技术方案的基础上，所述羧基酸类络合剂选自柠檬酸、草酸、酒石酸、葡萄糖酸或乙醇酸中的一种或几种，优选柠檬酸。