[发明专利]用于生成氧气的设备

权利要求书

1.一种用于生成氧气的设备，其包括

容纳用于生成氧气的组合物的至少一个反应室，所述组合物包含由以下各项组成的成分组合：至少一种氧源、为呈液态的盐的至少一种离子液体和作为触发氧气释放反应的催化剂的至少一种金属氧化物化合物，

-用于保持所述氧源、所述离子液体和所述金属氧化物化合物中的至少一者与剩余成分物理上分离的装置，

-用于建立所述氧源、所述离子液体和所述金属氧化物化合物的物理接触的装置，以及

-用于允许氧气离开所述反应室的装置，

其中所述金属氧化物化合物为单一金属或两种或更多种不同金属的氧化物，所述金属选自元素周期表第2至14族的金属，并且其中所述氧源包括过氧化物化合物，其中所述过氧化物化合物选自碱金属过碳酸盐、碱金属过硼酸盐、脲过氧化氢及其混合物，

其中所述用于建立物理接触的装置为定量机构，或包括用于破坏用于保持组分物理上分离的装置的设备和用于启动用于破坏的设备的启动机构，其中所述用于破坏的设备为实心板、格栅或切割刃。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述用于允许氧气离开所述反应室的装置选自透气膜、玻璃料和分子筛。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述反应室包括用于接收所述氧源、所述离子液体和所述金属氧化物化合物中的至少一者的第一隔室，和用于接收其他成分的第二隔室。

4.根据权利要求1至2中任一项所述的设备，其中所述用于保持所述氧源、所述离子液体和所述金属氧化物化合物中的至少一者物理上分离的装置包括在所述反应室内的用于接收所述氧源、所述离子液体和所述金属氧化物化合物中的至少一者的至少一个接受器。

5.根据权利要求3所述的设备，其中所述用于保持所述氧源、所述离子液体和所述金属氧化物化合物中的至少一者物理上分离的装置包括在所述第一隔室与所述第二隔室之间的膜、箔或玻璃板。

6.根据权利要求1至2中任一项所述的设备，其中所述至少一个反应室被放置在具有气体出口的容器内。

7.根据权利要求1至2中任一项所述的设备，其中至少两个反应室或至少四个反应室被放置在一个容器内，所述容器提供用于接收离开所述反应室的氧气的共用气体空间。

8.根据权利要求1至2中任一项所述的设备，其中所述至少一个反应室包括用于生成氧气的不同组合物，或其中至少两个反应室包括用于生成氧气的不同组合物。

9.根据权利要求6所述的设备，其中所述气体出口包括用于限制气体流动的装置。

10.根据权利要求8所述的设备，其中所述用于生成氧气的组合物关于所述氧源和/或关于所述离子液体和/或关于所述金属氧化物化合物和/或关于所述氧源的压实度而不同。

11.根据权利要求1至2中任一项所述的设备，其中所述用于建立物理接触的装置为注射器。

12.装料组分用于再填充根据权利要求1至11中任一项所述的用于生成氧气的设备的用途，所述装料组分包括氧源制剂和离子液体制剂和金属氧化物化合物制剂，其中

所述氧源制剂包含过氧化物化合物，其中所述过氧化物化合物选自碱金属过碳酸盐、碱金属过硼酸盐、脲过氧化氢及其混合物，

所述离子液体制剂至少在-10℃至+50℃的温度范围内呈液态，并且

所述金属氧化物化合物制剂包含作为触发氧气释放反应的催化剂的单一金属或两种或更多种不同金属的氧化物，所述金属选自元素周期表第2至14族的金属。