[发明专利]一种锆铌合金表面非化学计量比氧化膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201711156469.4 | 申请日： | 2017-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN107675122B | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 汪瑞军;詹华;关成军;袁祖浩 | 申请（专利权）人： | 北京金轮坤天特种机械有限公司;中国农业机械化科学研究院 |
| 主分类号： | C23C8/12 | 分类号： | C23C8/12;C23C8/02;C22C27/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘奇 |
| 地址： | 100085 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 锆铌合金 非化学计量比 氧化膜 制备 努氏硬度 耐磨性和耐蚀性 表面氧化膜 含氧气氛炉 研磨和抛光 氧化锆膜 直接氧化 致密性 膜层 锆氧 | ||
1.一种锆铌合金表面非化学计量比氧化膜的制备方法，步骤为：
将锆铌合金进行表面处理；所述表面处理包括依次进行的研磨和抛光；
在含氧量为(0.021～0.21)×105Pa的氧化气氛中，将表面处理后的锆铌合金进行氧化处理，在锆铌合金表面形成非化学计量比氧化膜；所述氧化处理的温度为500～600℃；所述氧化处理的时间为3～7h；
所述锆铌合金包括以下组分：Nb2～5wt％，Hf＜0.005wt％，O0.1～0.2wt％，Zr94.8～97.8wt％；
所述非化学计量比氧化膜中的锆氧比为1:(1～2)；
所述非化学计量比氧化膜的相组成包括单斜氧化锆相和四方氧化锆相，所述单斜氧化锆相在氧化膜中的体积分数为11.81％。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述研磨为使用砂纸将锆铌合金研磨至表面粗糙度Ra＜50nm。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述抛光为使用SiO2抛光液将研磨后的锆铌合金抛光至镜面。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述氧化气氛包括空气气氛、氧气气氛或原子氧气氛。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，升温至所述氧化处理的温度的升温速率为9～11℃/min。
6.权利要求1～5任一项所述的制备方法制备得到的锆铌合金表面非化学计量比氧化膜，其特征在于，所述氧化膜中的锆氧比为1:(1～2)。
7.根据权利要求6所述的锆铌合金表面非化学计量比氧化膜，其特征在于，所述氧化膜的厚度为5～10μm。
8.根据权利要求6所述的锆铌合金表面非化学计量比氧化膜，其特征在于，所述氧化膜的相组成包括单斜氧化锆相和四方氧化锆相，所述单斜氧化锆相在氧化膜中的体积分数为11.81％。
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