[发明专利]一种高分散二氧化硅的制备方法

权利要求书

1.一种高分散二氧化硅的制备方法，其步骤包括：

1)、将硅酸钠Na₂O·nSiO₂加水调制成1.0-2.0mol/L的硅酸钠溶液，搅拌30min，得到硅酸钠溶液；

2)、配制质量分数为1.4％-2.0％的硫酸钠溶液，搅拌30分钟备用；

3)、配制1.0-1.5mol/L的硫酸溶液备用；

4)、用水将分散剂六偏磷酸钠溶解，再将六偏磷酸钠溶解加入至步骤1)中的硅酸钠溶液中搅拌30分钟备用，分散剂六偏磷酸钠的质量占硅酸钠溶液质量的0.01％-0.1％；

5)、往反应釜中加入5-8m³的步骤2制得的硫酸钠溶液，加热至60℃，在搅拌速度为20Hz的条件下加入5-10m³步骤4)所得的溶液，搅拌10分钟后，搅拌速度增加至50Hz，以3-4m³/h的速度加入硫酸溶液进行反应，当pH值到达8.5时停止加酸，升温至85-95℃；

6)、在搅拌速度为30Hz的条件下，以11-13m³/h的速度加入硅酸钠溶液与硫酸溶液进行等当量酸碱中和反应，保持反应液的pH值为8.5，当硅酸钠溶液添加完毕后停止加入，再以3-4m³/h的速度添加硫酸溶液，当pH值到达4-5时，停止添加，继续搅拌10分钟；

7)、将形成的二氧化硅进行压滤洗涤，当洗涤水的电导率≤19000μs，通过喷雾干燥后用气流破碎机破碎至粒径为4-6μm的二氧化硅。

2.如权利要求1所述的高分散二氧化硅的制备方法，其特征在于：

所述硅酸钠Na₂O·nSiO₂中，n的范围为3.3-3.45。

3.如权利要求2所述的高分散二氧化硅的制备方法，其特征在于：

步骤2中配制的硫酸钠溶液的质量分数为1.7％。

4.如权利要求3所述的高分散二氧化硅的制备方法，其特征在于：

步骤3中配制的硫酸溶液浓度为1.25mol/L。

5.如权利要求4所述的高分散二氧化硅的制备方法，其特征在于：

步骤5中，硫酸溶液的滴加速度为3.5m³/h。

6.如权利要求5所述的高分散二氧化硅的制备方法，其特征在于：

步骤4中，用水将分散剂六偏磷酸钠溶解制得的六偏磷酸钠水溶液浓度为60wt％。

7.如权利要求6所述的高分散二氧化硅的制备方法，其特征在于：

步骤4中，分散剂六偏磷酸钠的质量占硅酸钠溶液质量的0.05％。

8.如权利要求7所述的高分散二氧化硅的制备方法，其特征在于：

步骤6具体为：以12m³/h的速度加入体积为5-8m³硅酸钠溶液和硫酸溶液进行等当量酸碱中和反应，保持反应液的pH值为8.5，当硅酸钠溶液添加完毕后停止加入，再以3.5m³/h的速度添加硫酸溶液，当pH值到达4.5时，停止添加，继续搅拌10分钟。

9.如权利要求8所述的高分散二氧化硅的制备方法，其特征在于：

步骤7的具体步骤为：将形成的二氧化硅进行压滤洗涤,当洗涤水电导率≤19000μs,通过喷雾干燥后用气流破碎机破碎至粒径为4-6μm。