[发明专利]一种厚膜混合集成电路及其批量生产控制方法有效
申请号: | 201711163906.5 | 申请日: | 2017-11-21 |
公开(公告)号: | CN109817648B | 公开(公告)日: | 2023-06-09 |
发明(设计)人: | 田振国;田仁杰 | 申请(专利权)人: | 湖北东光电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/13 | 分类号: | H01L27/13;H01L21/67 |
代理公司: | 荆门市首创专利事务所 42107 | 代理人: | 董联生 |
地址: | 448124 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 混合 集成电路 及其 批量 生产 控制 方法 | ||
一种厚膜混合集成电路及其批量生产控制方法,该包括厚膜电阻R6、厚膜电阻R7、瓷片电容C2、瓷片电容C3。对厚膜电阻R6与厚膜电阻R7进行分档测试时,横厚膜电阻R6标A*,按A1‑A7档分类标识于子陶瓷片左侧;竖厚膜电阻R7标X*,按X1‑X7档分类标识于子陶瓷片右侧。对C2与C3进行分档测试时,按B1‑B7档分类标识置于相同标识的小盒之内。Am与Bn对,Xm与Bn对,对Am与Bn之m与n的取值组合,优先考虑等于8进行组合,考虑批量生产电容的数量限制,其余依据不足的按6≤m+n≤10组合进行控制。本发明用于对轨道系统上的25Hz基信号进行精确采样、选频放大、整流与平滑处理,在工作信号幅度范围内,非线性可达到0.1%;该批量生产控制方法保障了产品的设计需要,满足了对应的厚膜混合集成电路批量生产。
技术领域
本发明涉及厚膜混合集成电路制作工艺领域,具体是一种厚膜混合集成电路及其批量生产控制方法。
背景技术
传统或常规的信号级采样、整流与处理电路的设计和调试方法,只适宜于板载个别样品电路的应用处理。对于批量应用而言,此类设计和处理方法无法实施。如铁路轨道系统中需要大量的性能良好、精度高、体积小巧的精密电子电路模块,用厚膜混合集成电路的方式生产的电子电路,可以对电子模块进行小型化。但是要用工作于非线性段的选频高阶精密整流线路来处理信号,当精度与指标要求足够高时,对批量处理应用来讲,几乎是难上加难、或者说几乎不可能。
发明内容
本发明提供一种厚膜混合集成电路及其批量生产控制方法,该厚膜混合集成电路用于对轨道系统上的25Hz基信号进行精确采样、选频放大、整流与平滑处理,在工作信号幅度范围内,非线性可达到0.1%;该批量生产控制方法保障了产品的设计需要,满足了对应的厚膜混合集成电路批量生产。
本发明采取的技术方案为:
一种厚膜混合集成电路,包括厚膜电阻R6、厚膜电阻R7、瓷片电容C2、瓷片电容C3。厚膜电阻R6另一端连接厚膜电阻R7一端,厚膜电阻R7另一端连接运算放大器U2的同相输入端。厚膜电阻R6另一端连接瓷片电容C2一端,瓷片电容C2另一端连接电阻R8一端、运算放大器U2的输出端,电阻R8另一端连接运算放大器U2的反相输入端。瓷片电容C3一端连接运算放大器U2的同相输入端,瓷片电容C3另一端接地。电阻R9一端连接运算放大器U2的反相输入端,电阻R9另一端接地。
所述厚膜电阻R6、瓷片电容C2形成第一组阻容对;厚膜电阻R7、瓷片电容C3形成第二组阻容对;
厚膜电阻R6与瓷片电容C2的乘积、以及厚膜电阻R7与瓷片电容C3的乘积保持精确固定,其积的精度误差需控制到0.11%以内。
所述厚膜电阻R6、厚膜电阻R7阻值为:615.0±1.0KΩ,精度要求控制在0.15%以内。
所述瓷片电容C2、瓷片电容C3为:NPO/1206/1%高精度瓷片电容。
该电路工作于二阶选频非线性工作点。
一种厚膜混合集成电路批量生产控制方法,对厚膜电阻R6与厚膜电阻R7进行分档测试时,横厚膜电阻R6标A*,按A1-A7档分类标识于子陶瓷片左侧;竖厚膜电阻R7标X*,按X1-X7档分类标识于子陶瓷片右侧;分档参数如下:
616.00K-615.76K标 A7,
615.75K-615.46K标A6,
615.45K-615.16K标A5,
615.15K-614.86K标A4,
614.85K-614.56K标A3,
614.55K-614.26K标A2,
614.25K-614.00K标A1;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖北东光电子股份有限公司,未经湖北东光电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711163906.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的