[发明专利]一种手机侧键水迹改善工艺在审

专利信息
申请号: 201711164912.2 申请日: 2017-11-21
公开(公告)号: CN108060031A 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 蔡嘉慰 申请(专利权)人: 石狮市科达电器有限公司
主分类号: C11D9/14 分类号: C11D9/14;C11D9/30;C11D9/10;C11D9/60;B08B3/08;B08B3/12
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 傅家强
地址: 362000 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 手机 侧键水迹 改善 工艺
【权利要求书】:

1.一种手机侧键水迹改善工艺,其特征在于:包括如下步骤:进料→除蜡→一次水洗→浸泡脱水剂→二次水洗→超声波清洗→烘干→检验,所述脱水剂包括以下重量份的原料:三乙醇胺15-20份、无水乙醇20-25份、十二烷基硫酸钠1-3份、苯并三唑3-5份、水35-50份。

2.根据权利要求1所述的一种手机侧键水迹改善工艺,其特征在于:所述脱水剂的质量溶度为1%-5%。

3.根据权利要求1或2所述的一种手机侧键水迹改善工艺,其特征在于:所述浸泡脱水剂包括:将手机侧键在常温下,浸泡脱水剂1-3min。

4.根据权利要求1所述的一种手机侧键水迹改善工艺,其特征在于:所述除蜡包括:将手机置于除蜡液中,在45-65℃的温度下处理3-15min,除蜡液包括以下重量份的原料:磷酸钠5-10份、二乙醇胺18-30份、硅酸钠5-10份、三乙醇胺油酸皂15-25份、水20-50份。

5.根据权利要求4所述的一种手机侧键水迹改善工艺,其特征在于:所述除蜡液的质量浓度为1%-3%。

6.根据权利要求1所述的一种手机侧键水迹改善工艺,其特征在于:所述超声波清洗包括:在手机侧键在80-100℃的纯水中进行超声波清洗5-10min。

7.根据权利要求1所述的一种手机侧键水迹改善工艺,其特征在于:所述烘干包括:将超声波清洗后的手机侧键放入80-120℃的烘箱中,烘干5-20min。

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