[发明专利]一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法及其用途

权利要求书

1.一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

(1)制备具有可见光反射的薄膜；

(2)在制备好可见光反射薄膜之后，在其表面涂覆一层具有高红外阻隔的纳米涂层；

(3)将制备好的复合薄膜在一定的温度下烘干、成型；

步骤(1)中所述具有可见光反射的薄膜，其制备方法包括以下步骤：

(a)制备具有核壳结构的复合微球；

(b)复合微球采用单向热压或是辊压成膜；得到具有可见光反射的薄膜；

所述的核壳结构的复合微球由内而外依次为核、过渡层、壳三层；核材料为球形的材料，尺寸均一，偏差小于10％；球形材料为150-200纳米的微球，对 350-800纳米的可见光具有较强的反射。

2.根据权利要求1所述的一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：所述的复合微球包括无机微球或有机微球；无机微球选自氧化硅球、氧化钛球、氧化铁球、氧化铝球、氧化锌球中的一种；有机微球选自聚苯乙烯微球、聚甲基丙烯酸甲酯微球、聚甲基丙烯酸丙酯微球中的一种。

3.根据权利要求2所述的一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：无机微球为氧化硅微球；有机微球为聚苯乙烯微球或聚甲基丙烯酸甲酯微球。

4.根据权利要求2所述的一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：所述的有机微球采用乳液聚合的方法制备，乳液聚合的温度在65-90℃之间；无机微球是采用stober工艺制备的氧化硅微球。

5.根据权利要求1所述的一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：所述的过渡层的材料为聚甲基丙烯酸丙酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯中的一种或几种的混合物。

6.根据权利要求1所述的一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：所述的壳层材料为热塑性聚氨酯或聚丙烯酸乙酯。

7.根据权利要求1所述的一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：所述的核的比重在30-60wt％，过渡层的比重在1-10wt％，壳层的比重在30-60wt％。

8.根据权利要求1所述的一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：热压的温度控制在80-150℃；热压的时间控制在20分钟以内，热压的压力控制在10-100Mpa。

9.根据权利要求8所述的一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：热压的温度控制在100-140℃；热压的时间控制在10分钟以内，热压的压力控制在40-60Mpa。

10.根据权利要求1所述的一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，红外阻隔纳米涂料的制备工艺包含两大步，无机纳米浆料的制备和有机无机纳米涂料的制备，其中，无机纳米浆料的制备包括混合、预分散、研磨、过筛四步，具体如下：

(i)将具有红外阻隔的无机纳米粉体、有机分散剂和有机溶剂三者混合；

(ii)将混合体在高速剪切分散介质中高速剪切分散30-60分钟；

(iii)将高速剪切分散的浆料放进罐磨机、球磨机或是砂磨机中研磨分散；

(iiii)将研磨好的色浆过筛，以去除大的颗粒。

11.根据权利要求10所述的一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：步骤(i)中，无机纳米粉体为氧化铟锡纳米粉体、氧化锡锑纳米粉体、氧化钨纳米粉体、氧化钼纳米粉体中的一种。

12.根据权利要求10所述的一种可见光反射近红外高阻隔薄膜的制备方法，其特征在于：步骤(i)中，有机分散助剂为含有羟基有机高分子、含有羧基有机高分子、含有环氧基有机高分子或含有氨基有机高分子中的一种；有机分散助剂的添加量为无机纳米粉体的0.5-15％。