[发明专利]蒸镀装置及蒸镀方法有效
申请号: | 201711176490.0 | 申请日: | 2017-11-22 |
公开(公告)号: | CN107815649B | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 杨成发;尹志;王琦;黄俊杰 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/04 |
代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 郭栋梁 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸镀基板 电磁铁单元 吸附 载具 褶皱 金属掩膜板 电磁模块 蒸镀装置 蒸镀 开关控制 申请 通电 承载 图案 释放 | ||
本申请公开了一种蒸镀装置及蒸镀方法,包括蒸镀基板载具,所述蒸镀基板载具用于承载蒸镀基板,所述蒸镀基板载具上蒸镀基板所在的区域上方设有电磁模块,所述电磁模块包括多个电磁铁单元,所述多个电磁铁单元用于按照预定的顺序进行通电。根据本申请实施例提供的技术方案,通过设置多个电磁铁单元对金属掩膜板进行吸附,能够解决金属掩膜板整体被吸附导致褶皱或者褶皱得不到释放的问题,同时,电磁铁单元可以更好的进行吸附强度和开关控制,能够提高蒸镀基板上图案的位置精度。
技术领域
本公开一般涉及蒸镀技术领域,尤其涉及蒸镀装置及蒸镀方法。
背景技术
真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀法)是在真空蒸镀室中通过蒸镀源对蒸镀材料进行加热,使蒸镀材料的原子或分子从其表面气化逸出形成蒸汽流,入射到待蒸镀基板表面,凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸镀法已经广泛应用于显示器件的制作过程,例如OLED(有机发光二极管,Organic Light-Emitting Diode)显示面板的阴极、阳极以及位于阴极和阳极之间的发光材料层。
现有的蒸镀装置对待蒸镀基板进行蒸镀时,待蒸镀基板通常水平安装在基板载具上,由于目前金属掩膜板通过大面积分布的永磁体吸附,整体使得与蒸镀基板贴合,由于金属掩膜板材质较薄,存在不同程度褶皱情况,在被整体吸附时褶皱区域无法释放或加重,出现蒸镀不良,同时每次的吸附情况不同存在蒸镀不稳定性。
发明内容
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种蒸镀装置。
第一方面,提供一种蒸镀装置,包括蒸镀基板载具,所述蒸镀基板载具用于承载蒸镀基板,所述蒸镀基板载具上蒸镀基板所在的区域上方设置电磁模块,所述电磁模块包括多个电磁铁单元,所述多个电磁铁单元用于按照预定的顺序进行通电。
第二方面,提供一种蒸镀方法,采用上述蒸镀装置进行蒸镀。
根据本申请实施例提供的技术方案,通过设置多个电磁铁单元对金属掩膜板进行吸附,能够解决金属掩膜板整体被吸附导致褶皱或者褶皱得不到释放的问题,同时,电磁铁单元可以更好的进行吸附强度和开关控制,能够提高蒸镀基板上图案的位置精度。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1为本发明实施例中蒸镀装置结构示意图;
图2为本发明实施例中电磁铁单元吸附示意图;
图3为本发明实施例中电磁铁单元吸附示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明,而非对该发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
请参考图1,本发明实施例提供一种蒸镀装置,包括蒸镀基板载具5,所述蒸镀基板载具5用于承载蒸镀基板6,所述蒸镀基板载具5上蒸镀基板6所在的区域上方设置电磁模块,所述电磁模块包括多个电磁铁单元8,所述多个电磁铁单元8用于按照预定的顺序进行通电。
本实施例提供的蒸镀装置采用包含多个电磁电源的电磁模块对金属掩膜板进行吸附,多个电磁模块顺次导通对金属掩膜板进行吸附,能够有效防止金属掩膜板与蒸镀基板贴合时产生褶皱,提高蒸镀基板上图案的位置精度,并且使用电磁铁单元进行吸附可以进行吸附强度的调节,使得金属掩膜板与蒸镀基板的吸附紧密效果更好。
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