[发明专利]用来制造具有整体窗口的化学机械平面化(CMP)抛光垫的方法在审
申请号: | 201711179988.2 | 申请日: | 2017-11-23 |
公开(公告)号: | CN108202436A | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | A·P·史密斯;J·J·亨德伦;J·R·斯塔克;J·B·米勒 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
主分类号: | B29C39/10 | 分类号: | B29C39/10;B29C39/12;B24B37/24;B29K75/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋;胡嘉倩 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 窗口片 化学机械平面化 敞口模具 适当位置 抛光垫 无溶剂反应混合物 形貌 液体异氰酸酯 抛光层表面 液体多元醇 预先确定 终点检测 组分混合 抛光层 成形 固化 喷射 制造 | ||
1.一种制造化学机械平面化(CMP)抛光层或抛光垫的方法,包含:
提供敞口模具,其具有带有会产生平坦的或成形的CMP抛光层表面的凹形貌的表面,并且具有保持在其上适当位置的一或多个窗口片;
将液体异氰酸酯组分与液体多元醇组分混合,形成无溶剂反应混合物;
将所述反应混合物喷射到所述敞口模具上,同时将所述一或多个窗口片保持在适当位置,每个窗口片位于预先确定的位置,然后;
将所述反应混合物固化,以便由所述反应混合物形成凝胶抛光层,脱模,并将所述凝胶抛光层固化,从而形成聚氨基甲酸酯反应产物作为CMP抛光层。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述一或多个窗口片在远离所述敞口模具表面的背侧上被遮蔽或阻挡,从而防止所述反应混合物在所述窗口片的遮蔽侧或阻挡侧上的积累并排除对抹平背侧以暴露所述窗口片的表面的需要。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述反应混合物在80℃下具有2秒到600秒的胶凝时间。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述固化包含:
从环境温度到130℃初始固化30秒到30分钟的时间段,形成所述凝胶抛光层;
将所述凝胶抛光层从所述敞口模具表面脱模,并且然后;
最后在60到130℃的温度下固化1分钟到16小时的时间段,形成多孔聚氨基甲酸酯反应产物,作为具有一或多个终点检测窗口并且密度为0.5gm/cc到1gm/cc范围的CMP抛光层。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述一或多个窗口片包含聚氨基甲酸酯,所述聚氨基甲酸酯选自由多元醇与芳香族、脂肪族或环脂族二异氰酸酯或多异氰酸酯的反应形成的聚氨基甲酸酯、或由异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物形成的聚氨基甲酸酯、或由异氰酸酯组分和多元醇组分的双组分反应混合物形成的聚氨基甲酸酯。
6.根据权利要求5所述的方法,其中所述一或多个窗口片包含聚氨基甲酸酯,所述聚氨基甲酸酯选自(i)多元醇组分与异氰酸酯组分的产物,其含有以所述多元醇组分中的所述多元醇和所述异氰酸酯组分中的所述异氰酸酯的总重计2wt.%或更少的芳香族异氰酸酯基团。
7.根据权利要求1所述的方法,其中所述窗口片具有使用D型Rex硬度计的肖氏D硬度为15到90的硬度。
8.根据权利要求1所述的方法,其中所述CMP抛光层具有15到90的D型Rex硬度计的肖氏D硬度。
9.根据权利要求1所述的方法,其中所述一或多个窗口片各自为圆形、方形、矩形或多边形,并且所述敞口模具具有平坦区域或凹槽,其适合于容纳所述一或多个窗口片的每一个并具有与所述一或多个窗口片的每一个相同的外部尺寸。
10.根据权利要求1所述的方法,其中所述一或多个窗口片通过任何以下方式保持在所述敞口模具的表面上的适当位置:在喷射和固化以形成凝胶抛光层的过程中向所述一或多个窗口片的下侧施加真空,将粘合剂或双面胶带施加到所述敞口模具中所述一或多个窗口片置于所述敞口模具上的位置,以及向所述敞口模具提供平坦区域或袋体,所述袋体从所述敞口模具的周围表面轻微凹陷并且使得其尺寸容许所述一或多个窗口片紧密贴合到所述敞口模具中的适当位置。
11.根据权利要求1所述的方法,其中所述反应混合物基本上不含水。
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