[发明专利]放射治疗设备及其剂量控制装置和方法有效
申请号: | 201711180520.5 | 申请日: | 2017-11-23 |
公开(公告)号: | CN107754098B | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | 傅费超;章卫 | 申请(专利权)人: | 上海联影医疗科技有限公司 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10 |
代理公司: | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201807 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子脉冲 微波脉冲 微波脉冲发生器 电子注入 加速管 剂量控制装置 时延控制器 转化装置 放射治疗设备 同步状态 相对时延 引入 配置 转化 | ||
1.一种剂量控制装置,包括:
微波脉冲发生器,产生微波脉冲;
电子注入器,产生电子脉冲;
加速管,引入所述微波脉冲和所述电子脉冲,且根据所述微波脉冲对所述电子脉冲进行加速;
时延控制器,被配置为控制来自所述微波脉冲发生器的所述微波脉冲和来自所述电子注入器的所述电子脉冲的相对时延,以使所述微波脉冲和所述电子脉冲之间的关系至少包括两者部分同步状态;所述时延控制器被配置为控制所述微波脉冲的宽度和/或所述电子脉冲的宽度;
主控制器,用于基于单脉冲的剂量监测,利用亚标准脉冲剂量与微波脉冲和电子脉冲的相对时延以及微波脉冲和/或电子脉冲的幅值参数的对应关系来确定微波脉冲和电子脉冲的相对时延以及微波脉冲和/或电子脉冲的幅值;
X射线转化装置,将所述加速管加速后的电子脉冲转化为X射线剂量的装置;
幅值控制器,被配置为控制所述微波脉冲和/或所述电子脉冲的幅值;
所述微波脉冲和所述电子脉冲之间的关系还包括:完全同步状态和完全异步状态,所述完全同步状态对应所述电子脉冲的剂量为标准脉冲剂量,所述部分同步状态对应所述电子脉冲的剂量为亚标准脉冲剂量,所述完全异步状态对应所述电子脉冲的剂量为零。
2.根据权利要求1所述的剂量控制装置,其特征在于,还包括:
第一高压发生器,连接在所述时延控制器与所述微波脉冲发生器之间,用于响应来自所述时延控制器的控制信号产生提供给所述微波脉冲发生器的第一高压脉冲;和/或
第二高压发生器,连接在所述时延控制器与所述电子注入器之间,用于响应来自所述时延控制器的控制信号产生提供给所述电子注入器的第二高压脉冲。
3.一种剂量控制方法,用于剂量控制装置,所述剂量控制装置包括加速管、耦合到所述加速管上的微波脉冲发生器和电子注入器、幅值控制器、主控制器、X射线转化装置以及耦合到所述微波脉冲发生器和电子注入器上的时延控制器,所述方法包括:
通过所述微波脉冲发生器,在所述加速管中注入微波脉冲;
通过所述电子注入器,在所述加速管中注入电子脉冲;
通过所述主控制器,基于单脉冲的剂量监测,利用亚标准脉冲剂量与微波脉冲和电子脉冲的相对时延以及微波脉冲和/或电子脉冲的幅值参数的对应关系来确定微波脉冲和电子脉冲的相对时延以及微波脉冲和/或电子脉冲的幅值;通过所述时延控制器,控制所述微波脉冲和所述电子脉冲的相对时延、所述微波脉冲的宽度和/或所述电子脉冲的宽度,以获得所述加速管输出的亚标准脉冲;
通过所述幅值控制器,控制所述微波脉冲和/或所述电子脉冲的幅值;
通过所述X射线转化装置,将所述加速管加速后的电子脉冲转化为X射线剂量;
所述微波脉冲和所述电子脉冲之间的关系包括:完全同步状态、完全异步状态以及部分同步状态,所述完全同步状态对应所述电子脉冲的剂量为标准脉冲剂量,所述部分同步状态对应所述电子脉冲的剂量为亚标准脉冲剂量,所述完全异步状态对应所述电子脉冲的剂量为零。
4.一种加速器的剂量控制方法,所述加速器包括加速管、微波脉冲发生器、电子注入器、幅值控制器、主控制器和X射线转化装置,所述微波脉冲发生器和所述电子注入器均耦合到所述加速管上,所述方法包括:
确定来自所述微波脉冲发生器的微波脉冲和来自所述电子注入器的电子脉冲的相对时延与从所述加速管输出的脉冲的脉冲剂量的关系;
监测从所述加速管输出的脉冲;
当监测的脉冲的相关参数与预定的脉冲的相关参数不符时,调节所述微波脉冲和所述电子脉冲的相对时延以改变对应的脉冲剂量;
通过所述时延控制器,控制所述微波脉冲的宽度和/或所述电子脉冲的宽度;
通过所述幅值控制器,控制所述微波脉冲和/或所述电子脉冲的幅值;
所述微波脉冲和所述电子脉冲之间的关系包括:完全同步状态、完全异步状态以及部分同步状态,所述完全同步状态对应所述电子脉冲的剂量为标准脉冲剂量,所述部分同步状态对应所述电子脉冲的剂量为亚标准脉冲剂量,所述完全异步状态对应所述电子脉冲的剂量为零。
5.根据权利要求4所述的剂量控制方法,其特征在于,所述脉冲的相关参数包括剂量控制精度、脉冲重复频率、剂量率、脉冲剂量。
6.一种放射治疗设备,包括如权利要求1-2任一项所述的剂量控制装置。
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