[发明专利]阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

基板；

形成于所述基板上的栅极；

形成于所述栅极上的绝缘层；

形成于所述绝缘层上的有源层，其中，所述有源层为铟镓锌氧化物；

形成于所述有源层上的复合金属层，所述复合金属层包括与所述有源层连接的氧化铟锡膜层以及与所述氧化铟锡膜层连接的金属膜层，其中，所述金属膜层于显示区内开设有通口，所述氧化铟锡膜层与所述显示区对应的部分为像素层。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括保护层，所述保护层形成于所述复合金属层上。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述金属膜层为银膜层。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层开设有通孔。

5.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至4中任一项所述的阵列基板。

6.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基板上形成栅极；

在所述栅极上形成绝缘层；

在所述绝缘层上制备铟镓锌氧化物的有源层；

对所述有源层进行刻蚀；

在所述有源层上制备复合金属层，所述复合金属层包括氧化铟锡膜层和金属膜层，所述氧化铟锡层与所述有源层连接，所述金属膜层与所述氧化铟锡层连接；

将显示区对应的部分所述金属膜层刻蚀掉，将所述显示区外的所述复合金属层设置为源/漏极，将所述显示区内对应的部分所述氧化铟锡膜层设置为像素层。

7.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述对所述有源层进行刻蚀步骤为：

对所述有源层进行曝光、显影和刻蚀，将所述显示区内的部分所述有源层刻蚀掉。

8.根据权利要求7所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述将显示区对应的部分所述金属膜层刻蚀掉的步骤为：

对所述显示区对应的部分所述金属膜层曝光、显影和刻蚀，将显示区对应的部分所述金属膜层刻蚀掉。

9.根据权利要求7所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，在所述将显示区对应的部分所述金属膜层刻蚀掉的步骤之后还包括：

在所述复合金属层上制备保护层。

10.根据权利要求6所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述金属膜层为银膜层。