[发明专利]同批次制备多种不同成分含量的合成材料的方法在审
申请号: | 201711183055.0 | 申请日: | 2017-11-23 |
公开(公告)号: | CN108193175A | 公开(公告)日: | 2018-06-22 |
发明(设计)人: | 胡凯;张晓军;辛安玲玲 | 申请(专利权)人: | 深圳市矩阵多元科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/04 |
代理公司: | 深圳市华优知识产权代理事务所(普通合伙) 44319 | 代理人: | 余薇 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区西*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 靶材 合成材料 基板 激光射线 溅射 制备 照射 发射激光射线 激光发生器 靶材原子 分时切换 真空条件 激光器 可调 正对 沉积 激光 聚焦 | ||
1.一种同批次制备多种不同成分含量的合成材料的方法,其特征在于,包括:
提供激光发生器,并以指定强度发射激光射线;
在真空条件下,控制所述激光射线依次循环向预先准备的不同位置的多种具有不同材料成分的靶材聚焦并照射指定时间间隔;其中,所述多种靶材的材料为所述合成材料的组成成分;
提供一正对所述靶材设置的基板,所述靶材经激光射线照射后溅射出靶材原子,并沉积到所述基板上,且使所述基板上形成的每种材料具有相同的多种组分并且每种组分含量比值不同。
2.根据权利要求1所述的同批次制备多种不同成分含量的合成材料的方法,其特征在于,在使所述靶材原子沉积到所述基板上的步骤之后,还包括步骤:
在所述靶材和所述基板之间设置一掩膜板,所述靶材原子在向所述基板沉积的过程中,经所述掩膜板的作用而在基板上规则排布。
3.根据权利要求1所述的同批次制备多种不同成分含量的合成材料的方法,其特征在于,在控制所述激光射线依次循环向预先准备不同位置的多种靶材聚焦并照射指定时间间隔的步骤中,包括步骤:
设定激光射线向所述靶材照射的循环照射顺序及在每种靶材上聚焦并照射的时间间隔;
按照预设条件,以相同强度的激光射线对所述靶材进行指定时间的循环聚焦。
4.根据权利要求1所述的同批次制备多种不同成分含量的合成材料的方法,其特征在于,在靠近所述基板的位置设置加热器,通过加热使所述靶材原子在所述基板表面扩散。
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