[发明专利]一种真空设备压强调控系统及真空设备有效
申请号: | 201711183730.X | 申请日: | 2017-11-23 |
公开(公告)号: | CN107675145B | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | 彭泽云;胡祥龙;戴煜 | 申请(专利权)人: | 湖南顶立科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 410118 湖南省长*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空炉体 压强 压强调控 真空设备 抽真空管路 产品处理 压强差 恒定 产品处理室 工艺气体 薄膜规 室内外 进气口 第一电磁阀 质量流量计 气动球阀 保温层 电磁阀 隔膜阀 申请 抽取 尾气 室内 | ||
本申请公开了一种真空设备压强调控系统及真空设备,该装置包括真空炉体压强获取管路,抽真空管路和压强调控管路;真空炉体压强获取管路包括与真空炉体相连的第一电磁阀、用于获取真空炉体产品处理室的压强P1的第一薄膜规;与真空炉体相连的第二电磁阀、用于获取真空炉体保温层和产品处理室之间的压强P2的第二薄膜规;抽真空管路用于抽取产品处理室内的尾气;压强调控管路用于向抽真空管路通入第一工艺气体,调节P1和P2之间的压强差,以实现真空炉体产品处理室内外压强差的恒定;包括与第一气动球阀相连的第一隔膜阀、与第一工艺气体的进气口相连的第一质量流量计。本申请实现产品处理室内外压强差的恒定,从而获得质量更高的产品。
技术领域
本发明涉及化学气相沉积技术领域,特别涉及一种真空设备压强调控系统及真空设备。
背景技术
真空设备应用于高速钢、工具钢、模具钢,合金结构钢等材料的高压气淬,也可用于不锈钢材料的高温钎焊、固溶;粉末材料的烧结和时效处理、硬质合金的脱脂烧结等方面,同时在以碳-氢气体为碳源的材料或基体的化学气相沉积、表面处理等方面也得到了广泛应用。通常,真空设备包括但不限于炉壳1、保温层2和产品处理室3,可以参考图1中所示的真空设备的结构示意图。产品处理室3通常为工艺气体可以渗透进入其内部的相对密闭的装置,通入到保温层中的工艺气体通过这些孔进入产品处理室3,对待处理产品进行处理,处理的过程可以是工艺气体,通常是惰性气体,对待处理产品的表面进行处理,例如进行化学气相沉积;当然也可以是工艺气体从待处理产品的外表面进入到产品的内表面,与待处理产品进行处理,如反应或除去待处理产品内的成型剂等,从而得到所需的目标产品。可以理解的是,工艺气体进入产品处理室3的速度是否均匀直接影响最后经混合气体处理过的目标产品质量的好坏。因而,保持产品处理室3内外压强差的恒定有利于混合气体均匀进入产品处理室3,从而获得质量更高的目标产品。
在现有技术中,如何实现产品处理室3内外的压强差的恒定有两种解决方案。第一种解决方案是在抽真空管路上安装一个调节阀,通过对调节阀的控制使产品处理室3内外的压强差值恒定。但是,当炉内处理的产品有粘性很强的副产物通过真空管道时,这些副产物有部分会附在真空管道调节阀上,当工艺处理时间很长时,副产物会越来越多的集聚在调节阀上,使调节阀不能精确调节产品处理室3内外的压强差值。
第二种解决方案是保持抽真空管路抽速不变,在工艺进气口端安装质量流量控制器,通过对进气流量的控制实现产品处理室3内外的压强差值的恒定。但是在特定工艺条件下,一般都要求进气流量是恒定的,故而在工艺进气管道安装可控流量的质量流量控制器,由于同样存在调节阀不能精确调节产品处理室3内外的压强差值的问题,因而也不能满足要求。
因此,如何实现产品处理室3内外的压强差的恒定是本领域技术人员亟待解决的问题。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的在于提供一种真空设备压强调控系统及真空设备,实现产品处理室3内外压强差的恒定,从而获得质量更高的产品。其具体方案如下:
一种真空设备压强调控系统,包括真空炉体压强获取管路,抽真空管路和压强调控管路;其中,
所述真空炉体压强获取管路包括:
与所述真空炉体相连的第一电磁阀、与所述第一电磁阀相连的,用于获取所述真空炉体产品处理室3的压强P1的第一薄膜规、与所述真空炉体相连的第二电磁阀、与所述第二电磁阀相连的,用于获取所述真空炉体保温层2和所述产品处理室3之间的压强P2的第二薄膜规;
所述抽真空管路用于抽取所述产品处理室3内的尾气,包括:
与所述真空炉体相连的第一气动球阀、与所述第一气动球阀相连的第二气动球阀、与所述第二气动球阀相连的真空波纹管、与所述真空波纹管相连的压差阀、与所述压差阀相连的真空泵;
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的