[发明专利]调节装置及中子放射治疗系统

说明书

技术领域

本发明涉及医疗器械技术领域，尤其是涉及一种调节装置及中子放射治疗系统。

背景技术

现有的中子放射治疗系统是采用质子加速器照射靶件产生中子作为为中子源或者采用核反应堆作为中子源，从中子源射出的中心对准患者病灶位置进行放射治疗。

这种系统中加速器通常为线性加速器，加速器的出口位于治疗室中，用于对患者进行放射治疗。由于对于不同的病灶深度，所需中子束的能量不同，举例来说，对于皮层肿瘤照射需要热中子束，对于人体深部肿瘤照射需要超热中子束。因此，为了治疗不同病灶深度的患者，需要开设多个治疗室，在不同的治疗室内开设能够射出对应中子束的开口。

现有的中子放射治疗系统存在以下缺陷：其一，由于同一个出口仅能放射出一种中子束，无法根据治疗不同病灶深度的患者的需要调整中子束流的能量和照射范围；其二，由于在每个工作日的治疗期间，微型堆中间不能停堆，不论治疗装置是否在实施治疗工作，中子束会一直射入到治疗室中，使得在治疗室内始终存在放射性射线，因而难于在一次开堆期间连续治疗多名病人。

发明内容

本发明的目的在于提供一种调节装置，以解决现有技术中存在的上述技术问题。

本发明提供的调节装置，包括：密封机构、调节机构和驱动机构，

所述密封机构的相对两侧设置有开口，一侧开口与中子放射治疗装置的照射口处的外围区域贴合；

所述调节机构位于所述密封机构内，所述调节机构包括调节面板，所述调节面板上设置有多个选择区，至少包括第一选择区、第二选择区和第三选择区，所述第一选择区设置有第一通孔，以使得所述中子放射治疗装置的照射口处射出的中子全部经由所述第一通孔射出；所述第二选择区设置有屏蔽板，用于阻止中子射出；所述第三选择区设置有第一减速过滤板，用于降低射出的中子能量；

所述驱动机构与所述调节面板连接，用于改变所述调节面板上所述选择区的位置，以使得其中一个所述选择区盖合于所述中子放射治疗装置的照射口处。

进一步地，所述密封机构远离所述中子放射治疗装置的一侧开口处设置有移动门，所述移动门盖合于开口处用于防止中子射出。

进一步地，在上述任一技术方案中，所述选择机构还包括第四选择区，所述第四选择区设置有第二通孔，所述第二通孔的直径小于所述中子放射治疗装置的照射口的直径。

进一步地，在上述任一技术方案中，所述选择机构还包括检测区，所述检测区设置有检测校准口。

进一步地，在上述任一技术方案中，所述调节面板的数量为多个，多个所述调节面板依次排列，各所述调节面板上的相同的选择区依次对应。

优选地，所述调节面板为圆形，各所述选择区在所述调节面板上沿圆形轨迹依次分布，所述驱动机构包括转轴和驱动器，所述调节面板套装于所述转轴上，所述驱动器用于驱动所述转轴转动。

进一步地，还包括支撑架，所述调节面板与所述支撑架转动连接。

可选地，所述调节面板为矩形，各所述选择区沿所述调节面板的长度方向依次分布，所述调节面板安装于轨道上，所述驱动机构驱动所述调节面板沿所述轨道滑动。

相对于现有技术，本发明所述的调节装置具有以下优势：

本发明所述的调节装置应用于中子放射治疗系统中，具体地，密封机构的一侧扣合于设置有照射口的墙面上，另一次开口朝向治疗室内侧，用于防止中子经由调节面板与开口之间的间隙漏出，调节面板上的其中一个选择区与中子放射治疗装置的照射口位置对应，当第一选择区与照射口对应时，照射口射出的中子束经由第一通孔射出，第一选择区不对照射口射出的中子进行干预；当第二选择区与照射口对应时，屏蔽板阻止中子束射出，用于在无需治疗的时候防止中子束射到治疗室中；当第三选择区与照射口对应时，照射口内的中子束经由第一减速过滤板减速后射出，与经由第一通孔射出的中子束相比，经由第一减速器过滤板射出的中子束的能量更低，治疗肿瘤位置处于与皮肤表层相距更小的位置。

因此，使用本发明所述的调节装置，可通过调节机构改变调节面板上的选择区的位置，使得其中一个选择区与照射口对应，由于设置有第一选择区和第三选择区，因此在一个治疗室内至少可以治疗两种不同深度的病灶的患者，由于设置有第二选择区，当无患者进入治疗室内的时候，可以避免中子束持续不断射入治疗室内，从而避免治疗室内始终存在放射性射线。