[发明专利]一种可调式离子源及静电约束聚变反应器在审

专利信息
申请号: 201711189344.1 申请日: 2017-11-24
公开(公告)号: CN107946159A 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 赵鑫;刘敏胜;宋韵洋;杨圆明;陆鹏宇;王汉清 申请(专利权)人: 新奥科技发展有限公司
主分类号: H01J27/02 分类号: H01J27/02;G21B1/05
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 代理人: 申健
地址: 065001 河北省廊坊市经济*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 调式 离子源 静电 约束 聚变 反应器
【权利要求书】:

1.一种可调式离子源,包括一端开口的壳体,所述壳体内设有离子束产生单元,所述离子束产生单元产生的离子束可由所述开口射出所述壳体,其特征在于,所述壳体包括管状侧壁,所述管状侧壁的至少一段为波纹管,所述壳体包括位于所述波纹管远离所述开口一侧的安装部,所述离子束产生单元安装于所述安装部上;

还包括第一驱动单元,所述第一驱动单元可驱动所述安装部沿所述壳体的深度方向移动,所述第一驱动单元包括移动件和第一调节结构,所述移动件固定于所述波纹管的外表面上,所述第一调节结构可驱动所述移动件沿所述壳体的深度方向移动。

2.根据权利要求1所述的可调式离子源,其特征在于,还包括第二驱动单元以及第三驱动单元;

所述第二驱动单元可驱动所述安装部绕垂直于所述壳体深度方向的第一轴转动;所述第三驱动单元可驱动所述安装部绕垂直于所述壳体的深度方向、且垂直于所述第一轴的第二轴转动。

3.根据权利要求2所述的可调式离子源,其特征在于,所述第二驱动单元包括转动件和第二调节结构,所述转动件一端与所述移动件通过所述第一轴转动连接,另一端与所述安装部通过所述第二轴转动连接,所述第二调节结构可驱动所述转动件绕所述第一轴转动。

4.根据权利要求3所述的可调式离子源,其特征在于,所述移动件包括第一环形部,所述第一环形部套接于所述波纹管的外表面上;

所述转动件包括第二环形部,所述第二环形部套设于所述第一环形部远离所述开口一侧的所述管状侧壁外,所述第二环形部靠近所述第一环形部的一侧的对称位置与所述第一环形部均通过所述第一轴转动连接,所述第二环形部远离所述第一环形部的一侧的对称位置与所述安装部均通过所述第二轴转动连接。

5.根据权利要求4所述的可调式离子源,其特征在于,所述移动件还包括设于所述第一环形部外表面上的至少一个第一凸出部,所述第一调节结构设于所述第一凸出部上;

所述转动件还包括设于所述第二环形部靠近所述第一环形部一侧的两个第二凸出部,以及设于所述第二环形部远离所述第一环形部一侧的两个第三凸出部,两个所述第一轴分别设于所述第一环形部的对称位置处,两个所述第二轴分别设于所述安装部的对称位置处,两个所述第二凸出部与两个所述第一轴的位置一一对应,且通过远离所述第二环形部的一端与所述第一轴转动连接,两个所述第三凸出部与两个所述第二轴的位置一一对应,且通过远离所述第二环形部的一端与所述第二轴转动连接。

6.根据权利要求5所述的可调式离子源,其特征在于,所述第二环形部上对应至少一个所述第三凸出部的位置设有所述第二调节结构,所述安装部上对应至少一个所述第二凸出部的位置设有第四凸出部,所述第四凸出部位于所述第二环形部远离所述第二凸出部的一侧,所述第四凸出部上设有所述第三驱动单元。

7.根据权利要求6所述的可调式离子源,其特征在于,所述第一调节结构包括第一螺钉和第一螺纹孔,所述第一螺纹孔沿所述壳体的深度方向设于所述第一凸出部上,所述第一螺钉配合设置于所述第一螺纹孔内,所述第一螺钉转动可驱动所述移动件沿所述壳体的深度方向移动;

所述第二调节结构包括第二螺钉和第二螺纹孔,所述第二螺纹孔设于所述第二环形部上,所述第二螺钉配合设置于所述第二螺纹孔内,所述第二螺钉转动可驱动所述转动件绕所述第一轴转动;

所述第三驱动单元包括第三螺钉,所述第四凸出部上设有第三螺纹孔,所述第三螺钉配合设置于所述第三螺纹孔内,所述第三螺钉转动可驱动所述安装部绕所述第二轴转动。

8.根据权利要求7所述的可调式离子源,其特征在于,所述第一环形部上对应所述第二螺纹孔的位置设有第五凸出部,所述第二螺钉靠近所述开口的一端与所述第五凸出部抵接,所述第三螺钉靠近所述开口的一端与所述第二环形部的相应位置抵接。

9.根据权利要求2所述的可调式离子源,其特征在于,所述管状侧壁上位于所述开口的位置设有聚焦环支架,所述聚焦环支架上设有容纳空间,所述容纳空间内设有用于对所述离子束进行聚焦的聚焦环,所述聚焦环与所述安装部滑动连接。

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