[发明专利]刻蚀溶液和刻蚀方法

权利要求书

1.一种刻蚀溶液，所述刻蚀溶液用于对待刻蚀层进行湿法刻蚀，其特征在于，包括：

刻蚀剂；

添加剂，所述添加剂包括阻挡颗粒以进入所述待刻蚀层的侧壁位置处，并填充于所述待刻蚀层的侧壁上，所述添加剂占所述刻蚀溶液的体积比在0.8％到1.2％的范围内。

2.如权利要求1所述的刻蚀溶液，其特征在于，所述阻挡颗粒尺寸与所述待刻蚀层厚度的比值在1/20到1/2范围内。

3.如权利要求1或2所述的刻蚀溶液，其特征在于，所述阻挡颗粒的尺寸在0.1μm到1μm范围内。

4.如权利要求1所述的刻蚀溶液，其特征在于，所述添加剂中，所述阻挡颗粒的质量百分比浓度在20％到40％范围内。

5.如权利要求1所述的刻蚀溶液，其特征在于，所述阻挡颗粒的材料为高分子材料。

6.如权利要求1或5所述的刻蚀溶液，其特征在于，所述阻挡颗粒的材料包括聚乙烯、聚丙烯、乙二醇和水中的至少两种。

7.如权利要求6所述的刻蚀溶液，其特征在于，所述阻挡颗粒的材料为聚乙烯、聚丙烯、乙二醇和水的络合物。

8.如权利要求1或5所述的刻蚀溶液，其特征在于，所述待刻蚀层的材料为金属；

所述刻蚀剂为酸性溶液。

9.如权利要求8所述的刻蚀溶液，其特征在于，所述待刻蚀层的材料为铝；所述刻蚀剂包括：磷酸、硝酸和乙酸中的一种或多种。

10.如权利要求9所述的刻蚀溶液，其特征在于，所述刻蚀溶液温度为50℃到60℃范围内时；所述刻蚀剂对所述待刻蚀层的垂直刻蚀速率在到范围内。

11.如权利要求1所述的刻蚀溶液，其特征在于，所述添加剂占所述刻蚀溶液的体积比大于或等于0.5％。

12.一种刻蚀方法，其特征在于，包括：

提供衬底，所述衬底上具有待刻蚀层；

提供如权利要求1至权利要求11任意一项权利要求所述的刻蚀溶液；

采用所述刻蚀溶液对所述待刻蚀层进行湿法刻蚀，使所述待刻蚀层图形化，以形成目标图形层。

13.如权利要求12所述的刻蚀方法，其特征在于，所述目标图形层的宽度大于40μm。

14.如权利要求12所述的刻蚀方法，其特征在于，采用所述刻蚀溶液对所述待刻蚀层进行湿法刻蚀，所述刻蚀剂的流量在8L/min到10L/min。

15.如权利要求12所述的刻蚀方法，其特征在于，湿法刻蚀之后，对所述目标图形层进行清洗处理。

16.如权利要求15所述的刻蚀方法，其特征在于，通过去离子水对所述目标图形层进行所述清洗处理。