[发明专利]一种面板行业高稳定性铜蚀刻液在审
| 申请号： | 201711193749.2 | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN107761099A | 公开（公告）日： | 2018-03-06 |
| 发明（设计）人： | 戈烨铭 | 申请（专利权）人： | 江苏中德电子材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙)32309 | 代理人： | 隋玲玲 |
| 地址： | 214434 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 面板 行业 稳定性 蚀刻 | ||
【权利要求书】：
1.一种面板行业高稳定性铜蚀刻液，其特征在于：它包括如下质量百分比的成分：
双氧水 5-30%
氢氟酸 1-7%
氧漂稳定剂 0.05-0.7%
过硫酸铵 0.05-0.5%
铜离子络合剂 0.3-1%
钼离子络合剂 0.1-0.5%
余量为纯水。
2.根据权利要求1所述的面板行业高稳定性铜蚀刻液，其特征在于：所述氧漂稳定剂为Na2SiO3、非硅类氧漂稳定剂。
3.根据权利要求1所述的面板行业高稳定性铜蚀刻液，其特征在于：所述铜离子络合剂为磺基水杨酸，二甲酚橙，硫代硫酸盐的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的面板行业高稳定性铜蚀刻液，其特征在于：所述钼离子络合剂为四乙酸二氨基乙烷。
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