[发明专利]用于调整模板的位置的系统和方法

说明书

本发明涉及用于调整模板的位置的系统和方法。用于调整模板的相对位置的方法、系统和装置包括：确定第一模板的有效区域的相邻区域的表面的第一多个位置点，所述相邻区域的表面和有效区域的表面形成第一模板的连续表面；基于第一多个位置点识别第一模板的所述相邻区域的表面的平面；确定第二模板的有效区域的表面的第二多个位置点，第二模板的有效区域从第二模板的表面突出；基于第二多个位置点识别第二模板的有效区域的表面的平面；和基于识别的平面，调整第一模板和第二模板的相对位置。

背景技术

纳米制造包括制造非常小的结构，所述非常小的结构具有100纳米或更小的量级的特征。纳米制造具有相当大影响的一个应用是集成电路的处理。半导体加工业继续致力于实现更大的产量，同时增加在基板上形成的每单位面积的电路，因此纳米制造变得越来越重要。纳米制造提供更佳的工艺控制，同时允许不断减小所形成的结构的最小特征尺寸。已经采用纳米制造的其他开发领域包括生物技术、光学技术和机械系统等。

发明内容

在本说明书中描述的主题的创新方面可以体现在包括调整第一压印光刻模板和第二压印光刻模板的相对位置的动作的方法，该方法包括：确定第一模板的有效区域的相邻区域的表面的第一多个位置点，所述相邻区域的表面和有效区域的表面形成第一模板的连续表面；基于第一多个位置点识别第一模板的所述相邻区域的表面的平面；确定第二模板的有效区域的表面的第二多个位置点，第二模板的有效区域从第二模板的表面突出；基于第二多个位置点识别第二模板的有效区域的表面的平面；以及基于第一模板的所述相邻区域的表面的平面和第二模板的有效区域的表面的平面，调整第一模板和第二模板的相对位置。

这些方面的其它实施例包括相应的系统并且被配置为执行所述方法的动作。

这些和其它实施例可分别任选地包括以下特征中的一个或更多个。例如，比较第一模板的所述相邻区域的表面的平面与第二模板的有效区域的表面的平面；以及，基于所述比较，评估第一模板的所述相邻区域的表面的平面与第二模板的有效区域的表面的平面之间的调平误差(leveling error)，其中基于调平误差调整第一模板与第二模板的相对位置。第一模板和第二模板的相对位置被调整，以补偿调平误差。调整第一模板和第二模板的相对位置包含调整第一模板的所述相邻区域的表面的平面与第二模板的有效区域的表面的平面之间的相对角度。第一模板的所述相邻区域包围第一模板的有效区域。第一模板的有效区域包含一个或更多个构图特征。第二模板的有效区域基本上是平坦的。第一多个位置点和第二多个位置点被同时确定。

在本说明书中描述的主题的创新方面可以体现在用于调整第一压印光刻模板和第二压印光刻模板的相对位置的系统，所述系统包括：第一模板保持器，被配置为保持第一模板，第一模板包含有效区域和有效区域的相邻区域，其中，所述相邻区域的表面和有效区域的表面形成第一模板的连续表面；第二模板保持器，被配置为保持第二模板，第二模板包含有效区域，第二模板的有效区域从第二模板的表面突出；第一感测设备，被配置为确定第一模板的所述相邻区域的表面的第一多个位置点；第二感测设备，被配置为确定第二模板的有效区域的表面的第二多个位置点；致动器系统，被配置为调整第一模板和第二模板的相对位置；以及，处理设备，被配置为i)基于第一多个位置点识别第一模板的所述相邻区域的表面的平面、ii)基于第二多个位置点识别第二模板的有效区域的表面的平面、以及iii)向致动器系统提供信号使得致动器系统基于第一模板的所述相邻区域的表面的平面和第二模板的有效区域的表面的平面调整第一模板和第二模板的相对位置。

这些方面的其它实施例包括由所述系统执行的相应的方法。

在本说明书中描述的主题的特定实施例可以被实施，以实现以下优点中的一个或更多个。本公开的实施例使得最小化(如果没有防止)i)复制品模板的图像放置误差、ii)位于复制品模板上的材料的不均匀的流体扩散、以及iii)超出复制品模板上的期望区域的流体挤出。

在附图和下面的描述中阐述了在本说明书中描述的主题的一个或多个实施例的细节。根据说明书、附图和权利要求，所述主题的其它潜在特征、方面和优点将变得清晰。

附图说明