[发明专利]聚焦环、承载装置及反应腔室有效
| 申请号： | 201711204488.X | 申请日： | 2017-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN109841474B | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 郭士选;苏恒毅 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 聚焦 承载 装置 反应 | ||
1.一种聚焦环，套置在用于承载基片的卡盘的外周壁，其特征在于，所述聚焦环包括由上至下依次叠置的上环部、中环部和下环部；
所述中环部的内壁垂直所述下环部的上表面，且所述下环部的内径小于所述中环部的内径，以使所述基片的底部边缘能够放置于所述下环部相对所述中环部内壁凸出的上表面上；
所述上环部的内壁与所述上环部的下表面之间的夹角为锐角，以使所述基片上表面上方电场的等位线趋于平直；
所述上环部的上表面高于所述基片的上表面，二者的高度差为第一距离；
所述上环部的底面高于所述基片的上表面，二者的高度差为第二距离。
2.根据权利要求1所述的聚焦环，其特征在于，所述第一距离的取值范围为大于3mm且小于等于8mm；
所述第二距离的取值范围为小于等于3mm；
所述锐角的取值范围为大于等于30°且小于等于60°。
3.根据权利要求2所述的聚焦环，其特征在于，所述中环部的内壁和所述基片的外周壁之间的距离为第三距离；
所述第三距离的取值范围为小于等于1mm。
4.根据权利要求3所述的聚焦环，其特征在于，所述第一距离为8mm；所述第二距离为1mm；所述第三距离为1mm，所述锐角为60°。
5.根据权利要求3所述的聚焦环，其特征在于，所述第一距离为8mm；所述第二距离为2mm；所述第三距离为1mm，所述锐角为30°。
6.根据权利要求3所述的聚焦环，其特征在于，所述第一距离为8mm；所述第二距离为3mm；所述第三距离为1mm，所述锐角为45°。
7.根据权利要求1所述的聚焦环，其特征在于，所述聚焦环采用石英或者陶瓷材料制成。
8.一种承载装置，包括卡盘和聚焦环，所述聚焦环套置在所述卡盘的侧壁，所述卡盘和所述聚焦环共同用来承载基片，其特征在于，所述聚焦环采用权利要求1-7任意一项所述的聚焦环。
9.一种反应腔室，包括承载装置，其特征在于，所述承载装置采用权利要求8所述的承载装置。
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