[发明专利]一种类陶瓷式盖板及其制作方法

权利要求书

1.一种类陶瓷式盖板，其特征在于，包括基板，所述基板的第一表面依次设置有光学膜层和类金刚石膜层，所述基板的第二表面设置有油墨层，所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3。

2.根据权利要求1所述的类陶瓷式盖板，其特征在于，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化钛膜或氧化铌膜。

3.根据权利要求2所述的类陶瓷式盖板，其特征在于，所述光学膜层包括三层至五层膜。

4.根据权利要求1所述的类陶瓷式盖板，其特征在于，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化钛膜。

5.根据权利要求4所述的类陶瓷式盖板，其特征在于，所述光学膜层包括三层膜，其中第一层为厚度为20nm的二氧化硅膜，第二层为厚度为10nm至80nm的氧化钛膜，第三层为厚度为10nm至80nm的二氧化硅膜。

6.一种类陶瓷式盖板的制作方法，其特征在于，包括：

利用真空镀膜方式在基板的第一表面制作光学膜层和类金刚石膜层，所述光学膜层包括由至少两种氧化物膜交替叠加形成的至少三层膜，其中，至少两种所述氧化物膜之间的折射率差值不小于0.3；

在所述基板的第二表面制作油墨层。

7.根据权利要求6所述的类陶瓷式盖板的制作方法，其特征在于，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜、氧化钛膜或氧化铌膜。

8.根据权利要求7所述的类陶瓷式盖板的制作方法，其特征在于，所述光学膜层包括三层至五层膜。

9.根据权利要求6所述的类陶瓷式盖板的制作方法，其特征在于，所述至少两种氧化物膜包括二氧化硅膜和氧化钛膜。

10.根据权利要求9所述的类陶瓷式盖板的制作方法，其特征在于，所述光学膜层包括三层膜，其中第一层为厚度为20nm的二氧化硅膜，第二层为厚度为10nm至80nm的氧化钛膜，第三层为厚度为10nm至80nm的二氧化硅膜。