[发明专利]一种异氰酸酯有效
申请号: | 201711215731.8 | 申请日: | 2017-11-28 |
公开(公告)号: | CN107986989B | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 朱顺全;罗乙杰;刘敏 | 申请(专利权)人: | 湖北鼎龙控股股份有限公司 |
主分类号: | C07C265/12 | 分类号: | C07C265/12;C07C263/10;C07C201/08;C07C205/36;C07C213/02;C07C217/94;C07D307/66;C07D213/75;C07D217/24;C09K3/00 |
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地址: | 430057 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氰酸 | ||
本发明提供的一种异氰酸酯,该异氰酸酯的化学结构通式为:其中,Ar具有至少一个苯环结构、一个杂环结构、或一个苯环和一个杂环结构;其采用具有六氟环丁基醚结构和芳环结构的第一化合物依次经硝化、还原和异氰酸酯化处理即得。本发明的异氰酸酯及其制备方法和应用,由该异氰酸酯制备的材料,具有较强的透光性能和稳定性。
技术领域
本发明涉及化学抛光材料,更具体地,涉及一种异氰酸酯。
背景技术
含有六氟环丁基芳基醚单元的有机材料,因其具有优异的光学性能,逐渐受到重视。这些材料具有较高的光传输效率和极小的光损失,在光学材料的应用上颇具前景。
另一方面,由于C-F键具有较小的可极化率,以二或三官能度含三氟乙烯基醚结构为预聚体,通过高温固化获得主链含有六氟环丁基芳基醚官能团的预聚体。
在材料中引入氟元素,通常具有众多优异的特性,诸如提高材料的热稳定性,提高材料的疏水性,降低材料的介电常数,提高材料的透光率,降低材料的摩擦系数等。例如文献Adv.Mater.2013,25,4875中报道了聚芳醚的制备方法聚合物中由于氟元素的引入以及联萘结构,能够显示出极好的介电性能和热稳定性。
在化学机械抛光过程中,抛光液中的磨粒对工件上的软化层进行磨削,同时,抛光垫上的窗口可供光线通过以便在抛光过程中检查镜片表面。目前,由于抛光层疏水性较差、摩擦系数较高,抛光垫窗口材料的透光率较低,其材料属性还有待提高。
发明内容
本发明提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的异氰酸酯,以解决抛光垫的窗口材料的透光性差的技术问题。
根据本发明的一个方面,提供一种异氰酸酯,其化学结构通式为:
其中,Ar为具有芳环结构的基团。
具体地,该异氰酸酯的化学通式可表述为C4F6-(OAr)2-(NCO)2。
在上述实施例的基础上,Ar具有至少一个苯环结构,或者Ar具有至少一个杂环结构,或者Ar具有至少一个苯环结构和至少一个杂环结构。
除特殊说明外,本发明中所提到的异氰酸酯均是指具有此种不同结构的新型异氰酸酯。
在上述实施例的基础上,Ar为苯基、萘环基、吡啶基、呋喃基或喹啉基。
例如,该异氰酸酯的化学结构式为:
在上述实施例的基础上,制备上述异氰酸酯的方法为:将具有六氟环丁基醚结构和芳环结构的第一化合物依次经硝化、还原和异氰酸酯化处理。
具体地,第一化合物可以酚类化合物等芳香类化合物为原料制备得到。
在上述实施例的基础上,第一化合物的化学结构通式为:
其中Ar为具有芳环结构的基团。
具体地,该第一化合物的化学通式可表述为C4F6-(OAr)2。
在上述实施例的基础上,Ar具有至少一个苯环结构,或者Ar具有至少一个杂环结构,或者Ar具有至少一个苯环结构和至少一个杂环结构。
在上述实施例的基础上,Ar优选为苯基、萘环基、吡啶基、呋喃基或喹啉基。
例如,第一化合物的化学结构式可以为等。
在上述实施例的基础上,硝化的具体方法为:将第一化合物缓慢加入到硝化剂中。
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