[发明专利]折反射光学系统和摄像装置有效

专利信息
申请号: 201711216036.3 申请日: 2017-11-28
公开(公告)号: CN108254859B 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 佐藤拙;平川纯;田中幸夫;水上雅文 申请(专利权)人: 株式会社腾龙;积晟电子股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B17/08
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 反射 光学系统 摄像 装置
【权利要求书】:

1.一种折反射光学系统,包括第一透镜和第二透镜,该第二透镜以与所述第一透镜之间设置空气间隔的方式配置在比所述第一透镜靠成像侧的位置处,该折反射光学系统的特征在于,

所述第一透镜的被摄体侧的面的周边区域为第一折射面,在所述第一透镜的被摄体侧的面的中心区域形成第二反射面,

所述第二透镜的成像侧的面的中心区域为第二折射面,在所述第二透镜的成像侧的面的周边区域形成第一反射面,

所述第一透镜的成像侧的面为连续曲面,

该折反射光学系统满足下述的条件式(1)和条件式(2),

Hm2/Hm1≤0.65·········(1)

其中,

Hm2为所述第二反射面的有效直径,

Hm1为所述第一反射面的有效直径,

0.5≤|d/Y|≤2.5········(2)

其中,

d为所述第一反射面与所述第二反射面的空气当量间隔,

Y为最大像高。

2.根据权利要求1所述的折反射光学系统,其特征在于,

满足下述的条件式(3),

0.2≤(f12)/f≤0.6······(3)

其中,

f12为从所述第一折射面到所述第一反射面为止的合成焦距,

f为该折反射光学系统的焦距。

3.根据权利要求1所述的折反射光学系统,其特征在于,

满足下述的条件式(4),

Vp1Vp2··············(4)

其中,

Vp1为所述第一透镜的阿贝数,

Vp2为所述第二透镜的阿贝数。

4.根据权利要求1所述的折反射光学系统,其特征在于,

满足下述的条件式(5),

f/fr2≤1.5············(5)

其中,

fr2为所述第二透镜的中心部分的焦距,

f为该折反射光学系统的焦距。

5.根据权利要求1所述的折反射光学系统,其特征在于,

满足下述的条件式(6),

0.8≤D/f≤1.5··········(6)

其中,

D为该折反射光学系统的光学总长,

f为该折反射光学系统的焦距。

6.根据权利要求1所述的折反射光学系统,其特征在于,

满足下述的条件式(7),

1.6≤TL/Y≤3.0·········(7)

其中,

TL为该折反射光学系统的透镜总长,

Y为最大像高。

7.根据权利要求1所述的折反射光学系统,其特征在于,

所述第一折射面随着从接近光轴的部分趋向周边,在从被摄体侧观察时从凸变化为凹。

8.根据权利要求1所述的折反射光学系统,其特征在于,

所述第一反射面和所述第二反射面为后表面反射镜。

9.一种摄像装置,其特征在于,具备:

根据权利要求1~8中的任一项所述的折反射光学系统;以及

摄像元件,其配置在该折反射光学系统的成像位置处。

10.一种摄像装置,具备两个光学系统以及配置在这两个光学系统各自的成像位置处的摄像元件,该摄像装置的特征在于,所述两个光学系统中的至少一个是根据权利要求1~8中的任一项所述的折反射光学系统。

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