[发明专利]一种皮革用的印染助剂在审

专利信息
申请号: 201711224293.1 申请日: 2017-11-29
公开(公告)号: CN107904990A 公开(公告)日: 2018-04-13
发明(设计)人: 劳吉清;姚金荣;毕晓芳 申请(专利权)人: 苏州润弘贸易有限公司
主分类号: D06P1/38 分类号: D06P1/38;D06P3/32;D06P1/52;D06P1/46;D06P1/50;C08G18/44;C08G18/58;C08G18/34;C08G18/66
代理公司: 南京同泽专利事务所(特殊普通合伙)32245 代理人: 石敏
地址: 215104 江苏省苏州市吴中*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 皮革 印染助剂
【说明书】:

技术领域

发明属于纺织助剂和精细化工技术领域,具体涉及一种皮革用的印染助剂。

背景技术

涂料印花是借助黏合剂的成膜作用将不溶生染料牢固在黏附在织物上,从而达到着色的目的。近年来, 中国染料、助剂和有机颜料行业的生产与市场发展健康而迅速,染料化学品消费初步增长。纺织业的快速发展大大提高了对染料纺织化学品的需求,染料行业与纺织业的相互依托意味着中国染料行业有着巨大的市场前景。

尽管现有技术中已存在多种染色助剂,但用于皮革表面,结合了印花和美化双重功能的染色助剂却很少。

发明内容

本发明要解决的技术问题是,针对现有技术不足,提出一种皮革用的印染助剂。

本发明为解决上述技术问题提出的技术方案是:

一种皮革用的印染助剂,包括以下组分及其重量百分比:

40%的水性增稠剂,30%的水溶助长剂,30%的水性涂饰剂;

所述水性增稠剂包括作为15%的活性染料,还包括75%的天然、半合成和合成的水溶性聚合物的混合物和10%的有机混合物;

所述水溶性聚合物的混合物为25%的水,15%的天然水溶性聚合物,30%的半合成水溶性聚合物,30%的合成水溶性聚合物;

所述水溶助长剂为25%乳化剂、25%分散剂、25%螯合剂(软水)、25%消泡剂以及它们的混合物;

所述水性涂饰剂为40%的聚碳酸亚丙酯多元醇、20%的二异氰酸酯和40%的有机锡催化剂;

所述有机混合物为有35%亲水扩链剂,35%环氧树脂和30%中和剂。

本发明中,所述天然水溶性聚合物为天然胶或其衍生物的干物质,基于混合物的重量,所述天然水溶性聚合物可以为10-25%。

本发明中,所述半合成水溶性聚合物为取代度在0.6-3之间的羧甲基纤维素,基于混合物的重量,所述半合成水溶性聚合物可以为25-45%。

本发明中,所述合成水溶性聚合物为烯属不饱和单体的聚合产物,基于混合物的重量,所述合成水溶性聚合物可以为10-30%。

本发明中,所述有机锡催化剂为二丁基锡二月桂酸酯。

本发明中,所述亲水扩链剂为二羟甲基丙酸(DMPA)和二羟甲基丁酸(DMBA)。

本发明中,所述中和剂为三乙胺、氨水、二甲氨基乙醇。

本发明的有益效果在于:通过使用活性染料,色谱广、色泽鲜艳、性能优异、适用性强。通过使用三种不同种类的增稠剂的混合并适当调整比例,能够适应不同条件下的印花印染状态。经过涂饰剂处理后的皮革表面可形成一层薄膜保护层,能够遮盖皮革缺陷和提高皮革档次,赋予合成革美观的外表、舒适的手感和良好的机械物理性能。。

具体实施方式

下面通过具体的实施例对本发明进行详细说明,但这些例举性实施方式的用途和目的仅用来例举本发明,并非对本发明的实际保护范围构成任何形式的任何限定,更非将本发明的保护范围局限于此。

一种皮革用的印染助剂,包括以下组分及其重量百分比:

40%的水性增稠剂,30%的水溶助长剂,30%的水性涂饰剂;

水性增稠剂包括作为15%的活性染料,还包括75%的天然、半合成和合成的水溶性聚合物的混合物和10%的有机混合物;

水溶性聚合物的混合物为25%的水,15%的天然水溶性聚合物,30%的半合成水溶性聚合物,30%的合成水溶性聚合物;

水溶助长剂为25%乳化剂、25%分散剂、25%螯合剂(软水)、25%消泡剂以及它们的混合物;

水性涂饰剂为40%的聚碳酸亚丙酯多元醇、20%的二异氰酸酯和40%的有机锡催化剂;

有机混合物为有35%亲水扩链剂,35%环氧树脂和30%中和剂。

天然水溶性聚合物为天然胶或其衍生物的干物质,基于混合物的重量,天然水溶性聚合物可以为10-25%。

半合成水溶性聚合物为取代度在0.6-3之间的羧甲基纤维素,基于混合物的重量,半合成水溶性聚合物可以为25-45%。

合成水溶性聚合物为烯属不饱和单体的聚合产物,基于混合物的重量,合成水溶性聚合物可以为10-30%。

有机锡催化剂为二丁基锡二月桂酸酯。

亲水扩链剂为二羟甲基丙酸(DMPA)和二羟甲基丁酸(DMBA)。

中和剂为三乙胺、氨水、二甲氨基乙醇。

本发明不局限于上述实施例,凡采用等同替换形成的技术方案,均落在本发明的保护范围。

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