[发明专利]一种基于超临界流体技术的琥珀优化方法有效

专利信息
申请号: 201711225193.0 申请日: 2017-11-29
公开(公告)号: CN108041779B 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 程小苏;曾嘉浩;侯舜瑜 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: A44C27/00 分类号: A44C27/00
代理公司: 44245 广州市华学知识产权代理有限公司 代理人: 陈智英
地址: 511458 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 临界 流体 技术 琥珀 优化 方法
【权利要求书】:

1.一种基于超临界流体技术的琥珀优化方法,其特征在于:包括以下步骤:

(1)将琥珀原石进行预处理,得到预处理的琥珀;

(2)将预处理的琥珀置于高压反应釜中,采用二氧化碳排空,密闭高压反应釜,通入高压二氧化碳,升温至100℃~180℃,当高压反应釜中压强为8~12MPa 时,超临界CO2形成,琥珀在超临界CO2环境中溶胀渗透,泄压,冷却,获得处理后的琥珀即蜜蜡;

步骤(2)中所述溶胀渗透的时间为3~12h。

2.根据权利要求1 所述基于超临界流体技术的琥珀优化方法,其特征在于:步骤(1)中所述预处理的琥珀最小尺寸≥2mm。

3. 根据权利要求2 所述基于超临界流体技术的琥珀优化方法,其特征在于:步骤(1)中所述预处理的琥珀最小尺寸为2~50mm。

4. 根据权利要求1 所述基于超临界流体技术的琥珀优化方法,其特征在于:步骤(1)中所述预处理是指将琥珀原石进行打磨去皮,切割,清洗,烘干。

5. 根据权利要求4 所述基于超临界流体技术的琥珀优化方法,其特征在于:所述烘干的温度为25℃~50℃。

6. 根据权利要求1 所述基于超临界流体技术的琥珀优化方法,其特征在于:所述预处理还包括抛光,具体是指切割后进行抛光处理。

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