[发明专利]离型膜及其制备方法

权利要求书

1.一种离型膜，其特征在于，包括离型层，所述离型层表面的粗糙度在0.5μm-2μm，所述离型层由分子量为50000g/mol-100000g/mol的聚-4-甲基戊烯和抗静电剂组成，所述抗静电剂在所述离型层的原料总质量中的质量百分比为2wt％-5wt％，所述离型层的表面具有凸起，所述凸起由中空泡状结构构成，所述中空泡状结构的直径为200nm-300nm，所述中空泡状结构中包含有无机纳米粒子，所述无机纳米粒子表面有分散基团，所述无机纳米粒子在所述离型层的原料总质量中的质量百分比为2wt%-5wt%，所述无机纳米粒子的粒径为30nm-100nm。

2.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述无机纳米粒子为二氧化硅、三氧化二铝、碳酸钙、硫酸钡中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述离型层的表面具有压纹。

4.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述离型膜还包括容让层，所述离型层位于所述容让层的两侧，所述容让层指的是具有缓冲性的层。

5.根据权利要求4所述的离型膜，其特征在于，所述容让层的材料为乙烯、丙烯、1-丁烯、4-甲基戊烯、氯乙烯、异丁烯、丁二烯、苯乙烯、丙烯腈、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、醋酸乙烯酯中一种单体的均聚物或两种以上单体的共聚物。

6.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，所述离型层占离型膜总厚度的10%-50%。

7.一种离型膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

形成容让层，所述容让层指的是具有缓冲性的层；

形成离型层，所述离型层由分子量为50000g/mol-100000g/mol的聚-4-甲基戊烯和抗静电剂组成，所述抗静电剂在所述离型层的原料总质量中的质量百分比为2wt％-5wt％；

所述离型层的表面上形成有中空泡状结构，所述中空泡状结构的直径为200nm-300nm，所述中空泡状结构中包含有无机纳米粒子，所述无机纳米粒子表面有分散基团，所述无机纳米粒子在所述离型层的原料总质量中的质量百分比为2%-5%，所述无机纳米粒子的粒径为30nm-100nm，所述离型层表面的粗糙度在0.5μm-2μm。