[发明专利]用于制造化学机械平面化（CMP）抛光垫的无气雾化方法

权利要求书

1.一种制造化学机械平面化(chemical mechanical planarization，CMP)抛光垫的方法，包含分别地经由侧面液体进料口将40℃到90℃的温度T1下的液体多元醇组分流和40℃到90℃的温度T2下的液体异氰酸酯组分流引入到具有下游开口端的内部腔室中，所述两种组分中的每一者处于13,000kPa到24,000kPa(2000psi到3400psi)的设定点压力下，使得所述两束流以90度朝向彼此向下游流动，进而使所述两种组分碰撞混合以形成反应混合物，所述液体多元醇组分包含一种或多种多元醇和胺固化剂；并且所述液体异氰酸酯组分包含一种或多种聚异氰酸酯或异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物；至少一种组分含有以所述反应混合物的总固体重量计高达2.0wt.％的足够量的非离子表面活性剂以有助于孔隙的稳定，在压力下经由狭窄小孔将所述反应混合物流从所述内部腔室的所述开口端排放并排放到具有氨基甲酸酯释放表面的敞口模具衬底上；并在环境温度到130℃下固化所述反应混合物以形成密度在0.6gm/cc到1gm/cc范围内的多孔聚氨基甲酸酯反应产物。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述液体多元醇组分包含芳香族二胺作为胺固化剂。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述液体异氰酸酯组分包含芳香族聚异氰酸酯或芳香族异氰酸酯封端的氨基甲酸酯预聚物。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述反应混合物不含额外发泡剂并且不含额外加压气体。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述反应混合物在固化温度下的凝胶时间是2秒到300秒。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述内部腔室是末端封闭的圆柱，其具有下游开口端、对称轴、至少两个通向所述内部圆柱形腔室的液体进料口、至少一个通向所述内部腔室的液体异氰酸酯组分进料口和至少一个通向所述内部腔室的液体多元醇组分进料口，其中所述封闭端和所述开口端垂直于所述对称轴；并且，其中所述至少一个液体多元醇组分进料口和所述至少一个液体异氰酸酯组分进料口沿着接近所述封闭端的所述内部圆柱形腔室的圆周配置。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述衬底是敞口模具，所述敞口模具具有当所施加的反应混合物填充所述模具时形成CMP抛光垫的期望的凹槽图案的凹形构形。

8.根据权利要求1所述的方法，其中在将所述温度T1下的液体多元醇组分和所述温度T2下的液体异氰酸酯组分中的每一者引入所述内部腔室时，各自具有10cP到1000cP的粘度。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述所得CMP抛光垫的平均孔径为20μm到80μm。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述反应混合物以及所述液体异氰酸酯组分和所述液体多元醇组分中的每一者不含溶剂并且基本上不含水。