[发明专利]一种盖板及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 201711234539.3 | 申请日: | 2017-11-29 |
公开(公告)号: | CN107994061B | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 宋振;王国英 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 张雨竹 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 盖板 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种盖板,包括第一衬底、设置于所述第一衬底上的辅助阴极,其特征在于,还包括设置于所述辅助阴极远离所述第一衬底一侧的包覆层,所述包覆层包覆所述辅助阴极;所述包覆层设置于非发光区;所述包覆层上设置有多个柱状图形以及多个接触孔;所述柱状图形与所述包覆层为一体结构;所述包覆层和所述柱状图形的材料为感光性有机树脂;
导电层设置于所述包覆层远离所述第一衬底的一侧,所述导电层通过所述接触孔与所述辅助阴极电连接;
所述盖板还包括黑矩阵,所述辅助阴极设置于所述黑矩阵远离所述第一衬底一侧;所述黑矩阵在所述第一衬底上的正投影的边界与所述包覆层在所述第一衬底上的正投影的边界重叠,或所述黑矩阵在所述第一衬底上的正投影的边界超出所述包覆层在所述第一衬底上的正投影的边界;
所述盖板在顶发射型OLED中使用。
2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述接触孔均匀分布,在一个像素区域至少设置一个所述接触孔。
3.根据权利要求2所述的盖板,其特征在于,所述盖板还包括彩色滤光层,所述彩色滤光层设置于所述黑矩阵远离所述第一衬底的一侧。
4.一种显示装置,其特征在于,包括阵列基板和权利要求1-2任一项所述的盖板;
所述阵列基板包括第二衬底、设置于所述第二衬底上每个子像素区域的顶栅型OLED。
5.一种盖板的制备方法,包括:在第一衬底上形成辅助阴极,其特征在于,还包括:在所述辅助阴极远离所述第一衬底一侧形成包覆层,所述包覆层包覆所述辅助阴极;所述包覆层位于非发光区;所述包覆层上还形成有多个柱状图形以及多个接触孔;且所述多个柱状图形与所述包覆层为一体结构;所述包覆层和所述柱状图形的材料为感光性有机树脂;
导电层形成于所述包覆层远离所述第一衬底的一侧,所述导电层通过所述接触孔与所述辅助阴极电连接;
形成黑矩阵,所述辅助阴极位于所述黑矩阵远离所述第一衬底的一侧;所述黑矩阵在所述第一衬底上的正投影的边界与所述包覆层在所述第一衬底上的正投影的边界重叠,或所述黑矩阵在所述第一衬底上的正投影的边界超出所述包覆层在所述第一衬底上的正投影的边界;
所述盖板在顶发射型OLED中使用。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,形成一体结构的所述包覆层和所述柱状图形,包括:
在形成有辅助阴极的第一衬底上形成有机膜,所述有机膜的材料包括感光性树脂;
采用半色调或灰色调掩膜板对所述有机膜进行曝光,显影后形成所述包覆层,以及位于所述包覆层上的所述柱状图形和所述接触孔。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的