[发明专利]显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统

说明书

本发明提供最适于将基板的显影所使用的显影液管理为最佳的状态的服务的显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统。基板处理系统中，显影液的浓度管理装置(B)、显影处理装置(A)、调制显影液的新液的调制装置(E)、对使用后的显影液进行再生的再生装置(F)由配管连接。显影液的浓度管理装置(A)测定显影处理装置(B)的显影液的物性或者成分浓度并供给显影液的原液或新液、再生液，从而将显影液管理为最佳的浓度。所供给的补充液由设于配管的累计流量计(151、152、153、154、155)计测。能够基于由累计流量计(151、152、153、154、155)计测出的补充液的累计流量来计算显影液的浓度管理的费用或基板的显影处理费用。

技术领域

本发明涉及显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统，尤其是在半导体或者液晶面板中的电路基板的显影工序中等为了对光致抗蚀剂膜进行显影而反复使用的显现碱性的显影液的浓度管理装置以及基板的显影处理系统。

背景技术

在用于实现半导体或液晶面板等的微细布线加工的光刻法的显影工序中，作为将在基板上制膜后的光致抗蚀剂溶解的药液，使用显现碱性的显影液(以下也称作“碱性显影液”)。碱性显影液被维持管理为根据需要的规定的浓度而使用，以使其性能最大限度地被发挥。显影液的浓度管理通过显影液的成分浓度的监视和基于测定出的浓度的补充液的补给来进行。作为补给的补充液，除了显影液的原液或纯水以外，还使用新调制出的碱性显影液(以下也称作“新液”)或再生处理为能够再利用的碱性显影液(以下也称作“再生液”)等。

另外，碱性显影液吸收空气中的二氧化碳并产生碳酸盐而容易劣化。另外，碱性显影液因光致抗蚀剂的溶解而产生光致抗蚀剂盐，导致对显影处理来说有效的碱成分被消耗。因此，反复使用的碱性显影液成为不仅含有碱成分还含有光致抗蚀剂、二氧化碳的多成分系。而且，这些成分分别以不同的作用度而对显影性能产生影响。因而，为了高精度地对显影液的显影性能进行维持管理，需要综合考虑这些成分对显影性能带来的影响来进行显影液管理。

以往，为了维持管理碱性显影液的浓度，使用碱性显影液而处理基板的人(以下也称作“基板制造者”)购入并使用显影液的浓度管理装置。基板制造者必须调配显影液的原液、新液等作为为了管理碱性显影液的浓度而补给的补充液。另外，在基板制造者自身调制新液时，必须购入用其原料自动地对碱性显影液进行调制的调制装置并运用该调制装置。另外，基板制造者为了自身准备再生液而必须购入将使用后的显影液再生处理为能够再利用的再生装置。

作为碱性显影液的管理装置，例如，下述的专利文献1记载有如下内容：测定与碱性显影液的成分浓度具有关联的多个特性值，基于测定出的多个测定值并利用多变量解析法来计算碱性显影液的成分浓度，基于该测定值以及计算值而向显影液输送补充液。

另外，专利文献2记载有如下的显影液管理装置：测定显影液的密度，使用显影液的密度值与吸收二氧化碳浓度值之间的对应关系，以使显影液的吸收二氧化碳浓度成为规定的管理值或者管理值以下的方式向显影液供给补充液。专利文献3记载有如下的显影液管理装置：具备数据存储部，该数据存储部存储有导电率数据，该导电率数据按照以显影液的溶解光致抗蚀剂浓度以及吸收二氧化碳浓度为指标而确定的区域，具有确认了实现规定的显影性能的显影液的导电率值，将根据显影液的溶解光致抗蚀剂浓度的测定值以及吸收二氧化碳浓度的测定值而确定的浓度区域的存储于数据存储部的导电率值作为控制目标值，向显影液补给补充液。

在先技术文献

专利文献1：日本特开2017-28089号公报

专利文献2：日本特开2017-28090号公报

专利文献3：日本特开2017-28091号公报