[发明专利]卷到卷基底沉积设备

权利要求书

1.一种卷到卷基底沉积设备，包括：

室，所述室被配置成在其中连续地接收柔性基底；

沉积单元，所述沉积单元设置在所述柔性基底的下方以向所述柔性基底的一个表面供应沉积材料；以及

沉积区域控制器，所述沉积区域控制器设置在所述柔性基底与所述沉积单元之间，以调节在其中所述柔性基底的所述表面上沉积有由所述沉积材料形成的膜的沉积区域的宽度和长度；

其中所述沉积区域控制器包括：

第一控制单元，所述第一控制单元包括多个侧壁并限定对应于所述柔性基底的所述表面的沉积区域，所述侧壁中的至少两个侧壁形成第一阻挡区域以控制所述沉积区域的宽度；以及

第二控制单元，所述第二控制单元设置在所述第一控制单元的下方以与所述两个侧壁相交并形成第二阻挡区域以控制所述沉积区域的长度；

所述第二阻挡区域在长度方向上比所述沉积区域更短。

2.根据权利要求1所述的卷到卷基底沉积设备，其中所述第一阻挡区域对应于所述柔性基底的两个侧部。

3.根据权利要求1所述的卷到卷基底沉积设备，其中所述两个侧壁沿所述柔性基底的宽度方向左/右移动并由此调节所述第一阻挡区域的宽度。

4.根据权利要求3所述的卷到卷基底沉积设备，其中所述柔性基底的所述宽度方向与在所述室中所述柔性基底的传送方向相交。

5.根据权利要求1所述的卷到卷基底沉积设备，其中所述第二控制单元在所述沉积区域内沿所述柔性基底的长度方向左/右移动并由此调节所述第二阻挡区域的位置。

6.根据权利要求5所述的卷到卷基底沉积设备，其中所述长度方向与在所述室中所述柔性基底的传送方向相同或相反。

7.根据权利要求5所述的卷到卷基底沉积设备，其中所述第二控制单元与所述柔性基底的传送距离同步地移动。

8.根据权利要求1所述的卷到卷基底沉积设备，其中所述室形成为直列型并且包括用于传送所述柔性基底的一个或更多个传送辊。

9.根据权利要求1所述的卷到卷基底沉积设备，其中所述室形成为筒型并且包括用于传送所述柔性基底的筒。