[发明专利]一种基于超分辨光刻的间隙检测装置

权利要求书

1.一种基于超分辨光刻的间隙检测装置，其特征在于：该装置包括白光光源，Y型光纤，物镜镜框，光纤准直镜，掩模，基片，纳米工件台，光谱仪和上位机，其中光纤准直镜和掩模由镜框进行装夹；掩模的非图形区域留有半透半反的窗口，且半透半反窗口处镀有铬层，同时基片上镀有银层，从白光光源输出的光由Y型光纤将入射光导入光纤准直镜，入射光在掩模下表面的半透半反窗口产生分光，一束光反射回光纤准直镜内部，另一束光经掩模的半透半反窗口透射后，经基片表面的银层反射，透过掩模的半透半反窗口被光纤准直镜接收，此时，被返回的两束光由Y型光纤返回光谱仪，由光谱仪进行探测，因为两束光经过的光程不同，从而产生相位差，在上位机中分析不同波长对应的相位差，获得掩模与基片之间的绝对距离，控制纳米工件台的Z轴运动消除间隙，实现纳米图形的曝光；

所述掩模的非图形区域留有半透半反的窗口，且半透半反窗口处镀5nm厚的铬层；基片上镀30nm厚的银层；

该装置通过对光谱仪接收到两束光的光谱分布进行分析，可以获得基片和掩模的光程差绝对值，进而获得基片和掩模两者之间光程差引起的相位差，实现掩模和基片之间的绝对间隙检测，能实现±4nm的检测；实现纳米级的间隙曝光，有效的保护了超分辨光刻器件，保证光刻图形质量。