[发明专利]一种放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷在审
申请号: | 201711244077.3 | 申请日: | 2017-11-30 |
公开(公告)号: | CN109851366A | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 高明超 | 申请(专利权)人: | 沈阳东青科技有限公司 |
主分类号: | C04B35/58 | 分类号: | C04B35/58;C04B35/65 |
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地址: | 110000 辽宁省沈阳市*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 陶瓷 放电等离子烧结 原位制备 烧结 第二相 制备高性能 耐磨性 比例增加 粉末合金 基体组织 综合性能 强韧化 致密化 抗弯 细化 生产工艺 断裂 | ||
1.放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷的制备原料包括:纯度>99.95%,粒径<2μm的Mo粉和纯度>99.99%,粒径<12μm的Si粉。
2.根据权利要求1所述的放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷,其特征是放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷的制备步骤为:将原始粉末按实验设计方案称重、配料,配好后倒入硬质合金球磨罐中进行湿磨,球磨时间为24h,球磨结束后,将制得的粒料进行真空干燥,干燥时间为90min,干燥温度为30℃,随后加入成形剂进行制粒,将制好的粉末加至单柱液压机中进行压制成形,压制压力为180MPa,将制好的压坯放入脱蜡-低压烧结一体炉中进行烧结,烧结温度为1160℃,保温时间为90min。
3.根据权利要求1所述的放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷,其特征是放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷的检测步骤为:密度采用Archimedes排水法测定,维氏硬度采用HV5型维氏硬度计测定,显微硬度采用纳米压痕/划痕综合力学性能测试仪测量,物相组成采用D250X射线衍射仪分析,抗弯强度采用Ins336材料力学试验机测试,三维形貌采用原子力显微镜观察,断口形貌采用扫描电镜观察,成分分析采用能谱仪进行。
4.根据权利要求1所述的放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷,其特征是所述的放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷,MoSi2陶瓷由MoSi2和少量第二相Mo5Si3/Mo4.8Si3C0.6以及SiO2相组成,随烧结温度升高,第二相Mo5Si3/Mo4.8Si3C0.6的含量增多,且发生Mo5Si3向Mo4.8Si3C0.6的相转变,所述的放电等离子烧结原位制备的MoSi2陶瓷,随烧结温度升高,基体组织细化,陶瓷沿晶断裂比例增加,第二相产生一定的强韧化作用,1100℃烧结的MoSi2陶瓷综合性能最佳,其致密度为99.97%,维氏硬度为11.43GPa,抗弯强度和断裂韧性分别为421MP和3.6MPa·m1/2。
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