[发明专利]一种波像差检测系统及测量方法在审

专利信息
申请号: 201711244709.6 申请日: 2017-11-30
公开(公告)号: CN109855842A 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 孙慧慧 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 波像差测量装置 波前信息 投影物镜 波像差检测 光斑 测量 球面波 像点 波像差测量 测试效率 位置对准 参考 波像差 入射 视场 像方 照射 探测 保证
【权利要求书】:

1.一种波像差测量方法,其特征在于,包括:

步骤一、使用球面波照射波像差测量装置,通过所述波像差测量装置获得未安装投影物镜时像方参考光斑对应的第一波前信息;

步骤二、安装所述投影物镜,使球面波经过所述投影物镜后,入射至所述波像差测量装置;

步骤三、调节所述波像差测量装置使得像点阵列和所述参考光斑的位置对准;

步骤四、根据所述波像差测量装置获得所述像点阵列的波前倾斜,并获得第二波前信息;

步骤五、根据所述第二波前信息和第一波前信息获得所述投影物镜的波像差信息。

2.如权利要求1所述的波像差测量方法,其特征在于,所述步骤一包括:

安装产生所述球面波的球面波发生单元,所述球面波发生单元包括光源、照明系统和掩模单元,使所述光源发出光束经照明系统和掩模单元形成球面波。

3.如权利要求2所述的波像差测量方法,其特征在于,所述照明系统由照明支撑工装支撑。

4.如权利要求2所述的波像差测量方法,其特征在于,步骤二包括:拆除所述照明系统及所述照明系统的支撑结构,安装所述投影物镜,安装所述照明系统。

5.如权利要求1所述的波像差测量方法,其特征在于,所述步骤一还包括安装所述波像差测量装置,所述波像差测量装置包括成像镜组、探测单元和工件台,所述工件台承载所述成像镜组和所述探测单元移动。

6.如权利要求5所述的波像差测量方法,其特征在于,所述工件台上方设置用于支撑所述照明系统的照明支撑工装。

7.如权利要求1所述的波像差测量方法,其特征在于,在所述步骤二中,安装所述投影物镜,使得用于产生所述球面波的球面波发生单元安装在所述波像差测量装置的最佳物面位置。

8.如权利要求5所述的波像差测量方法,其特征在于,所述成像镜组包括准直镜头和小孔光阑。

9.如权利要求8所述的波像差测量方法,其特征在于,所述准直镜头和小孔光阑的数量相同。

10.如权利要求8所述的波像差测量方法,其特征在于,所述准直镜头和小孔光阑的数量分别为至少两个,光斑成像半径R,光斑间隔L,所述准直镜头的焦距均为f,光斑半径大小R=f*NA,NA为待测投影物镜的数值孔径,若L<2R,则选择区域式扫描测试方法,若L>2R,选择嵌套式扫描测试方法。

11.如权利要求5所述的波像差测量方法,其特征在于,所述探测单元为夏克-哈特曼波前传感器,所述夏克-哈特曼波前传感器包括微透镜阵列和图像传感器,测量光束经所述成像镜组进入所述微透镜阵列。

12.如权利要求1所述的波像差测量方法,其特征在于,所述步骤五包括:

将所述第二波前信息减去第一波前信息获得所述投影物镜的波像差信息。

13.一种波像差检测系统,其特征在于,包括:球面波发生单元和波像差测量装置,所述波像差测量装置包括成像镜组和探测单元,所述球面波发生单元产生照射至所述成像镜组的球面波,所述波像差传感器配置为获取安装待测投影物镜前所述波像差测量装置的第一波前信息,还配置为获取安装待测投影物镜后像点阵列对应的第二波前信息。

14.如权利要求13所述的波像差检测系统,其特征在于,所述球面波发生单元包括光源、照明系统和掩模单元,所述光源发出光束经照明系统和掩模单元形成球面波。

15.如权利要求14所述的波像差检测系统,其特征在于,所述掩模单元包括针孔掩模。

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