[发明专利]一种调节反应容器进料的供料设备

说明书

技术领域

本发明涉及化工加工技术领域，具体涉及一种调节反应容器进料的供料设备。

背景技术

反应釜是有物理或化学反应的容器，现有反应釜一般结构都包括釜体、排气口、进料口、出料口、搅拌装置和加热装置，而加热装置一般都是通过在釜体壁外设置夹套或者通过外循环进行换热，主要加热方式有电加热、热水加热、导热油循环加热、远红外加热、外(内)盘管加热等；对于低沸点反应体系来说，并不是非要设有搅拌装置，搅拌装置会造成成本的增加。此外，现有用于液体类反应的反应釜，一般都是在釜体上端设置一个进料口并通过一根进料管来进行投料，这样的投料方式使得大量柱状的液体原料瞬间集中落下与反应釜内的主物料接触，会出现反应不均匀和反应过度等现象，直接影响到产品的质量，尤其是对于粘度的物料和大容积的反应釜，此弊端更加突出。同时，不能对加入的化学原料液体量进行精确控制。

基于此，研究开发了一种调节反应容器进料的供料设备。

发明内容

本发明提供一种调节反应容器进料的供料设备。

本发明通过下述技术方案实现：

一种调节反应容器进料的供料设备，包括驱动电机、万向接头、进口管、分支主管、反应釜主体，进口管伸入到反应釜主体内，进口管与分支主管连接，分支主管上依次设有第一分支主管、第二分支主管、第三分支主管、第四分支主管，进口管设有总流量传感器，分支主管上与第二分支主管的连接管路上设有第一电磁阀，第二分支主管与第一分支主管之间的分支主管上设有第二电磁阀，第三分支主管与分支主管的连接管路上设有第三电磁阀，第三分支主管与第四分支主管之间的分支主管上设有第四电磁阀；所述第一分支主管上设有第一流量传感器，第二分支主管上设有第二流量传感器，第三分支主管上设有第三流量传感器，第四分支主管上设有第四流量传感器；还包括控制器，控制器分别与总流量传感器、第一流量传感器、第二流量传感器、第三流量传感器、第四流量传感器、第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀、第四电磁阀、驱动电机电连接。

优选地，为了更好的实现本发明，所述驱动电机与变频器连接。

优选地，为了更好的实现本发明，所述第一分支主管、第二分支主管、第三分支主管、第四分支主管的下端均设有喷洒头。

优选地，为了更好的实现本发明，所述喷洒头上下侧面设有多个喷洒孔。

优选地，为了更好的实现本发明，所述第一流量传感器、第二流量传感器、第三流量传感器、第四流量传感器为相同结构。

优选地，为了更好的实现本发明，所述第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀、第四电磁阀为相同结构。

优选地，为了更好的实现本发明，所述控制器型号为ETW304。

本发明与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：

(1)本技术方案通过在采用万向接头、分支主管、第一分支主管、第二分支主管、第二分支主管、第三分支主管，将进口管中输送到反应釜内部的化学原料液体喷洒在反应釜内，确保了喷入到反应釜内的化学原料液体实现均匀喷洒，避免了局部喷洒过多的情况。

(2)本技术方案中通过驱动电机、变频器等对万向接头的旋转频率、旋转幅度进行调整控制，避免万向接头的旋转频率较大，洒落到反应釜内壁上。

(3)本技术方案中通过设置第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀、第四电磁阀、第一流量传感器、第二流量传感器、第三流量传感器、第四流量传感器、总流量传感器，对到达对应分支主管的流量进行控制，达到对反应釜内加料量的精确控制，且加料的同时，确保与反应釜内的主料混合均匀。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图2为本发明的结构示意图框图；

其中：1—反应釜主体，2—进口管，3—万向接头，4—分支主管，5—第四流量传感器，6—喷洒头，7—驱动电机，8—连接轴，9—第一流量传感器，10—第二电磁阀，11—第一电磁阀，12—第二流量传感器，13—第三电磁阀，14—第四电磁阀，15—第三流量传感器，16—总流量传感器，41—第一分支主管，42—第二分支主管，43—第三分支主管，44—第四分支主管。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例，对本发明作进一步的详细说明，本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明，并不作为对本发明的限定。

实施例1：