[发明专利]光阑挡片装置、边缘曝光镜头与光刻系统有效
申请号: | 201711246209.6 | 申请日: | 2017-11-30 |
公开(公告)号: | CN109856919B | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 任书铭 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光阑 装置 边缘 曝光 镜头 光刻 系统 | ||
1.一种光阑挡片装置,其特征在于,包括:制作于一透明基底的第一偏光层、制作于另一透明基底的第二偏光层、第一电极部、第二电极部与液晶层;所述第一偏光层、所述第一电极部、所述液晶层、所述第二电极部与所述第二偏光层沿目标方向依次间隔设置;
所述第一偏光层的偏光方向为第一方向,所述第二偏光层中设有透光区域,所述透光区域的偏光方向为第二方向,所述第二偏光层中其余部分的偏光方向为所述第一方向,所述第一方向与所述第二方向间呈90度;所述第一电极部与所述第二电极部的尺寸和形状,与所述透光区域的至少部分外边缘匹配。
2.根据权利要求1所述的光阑挡片装置,其特征在于,若所述光阑挡片装置用于对硅片上光刻胶的涂胶边缘区进行曝光,且曝光时所述硅片被驱动绕其轴心旋转,则:
所述第一电极部与所述第二电极部沿所述目标方向在所述第二偏光层的投影覆盖所述透光区域的第一边缘位置,所述第一边缘位置为曝光时所述透光区域中最靠近所述轴心和/或最远离所述轴心的位置。
3.根据权利要求1所述的光阑挡片装置,其特征在于,若所述光阑挡片装置用于对硅片上光刻胶的涂胶边缘区进行曝光,且所述硅片被驱动绕其轴心旋转,则:
所述第一电极部与所述第二电极部呈轴对称形状,且在进行曝光时,所述轴对称结构的对称轴与所述硅片的直径共面。
4.根据权利要求1至3所述的光阑挡片装置,其特征在于,所述第一电极部与所述第二电极部为框结构。
5.根据权利要求4所述的光阑挡片装置,其特征在于,所述透光区域的外边缘为矩形外边缘,所述第一电极部与所述第二电极部均为矩形框的结构。
6.根据权利要求5所述的光阑挡片装置,其特征在于,所述矩形框的各边的沿长度方向的中心线围合形成矩形形状,所述矩形形状与所述矩形外边缘的尺寸、形状相同。
7.根据权利要求5所述的光阑挡片装置,其特征在于,所述矩形框的各边的宽度相同。
8.根据权利要求1至3任一项所述的光阑挡片装置,其特征在于,所述第一电极部包括互相平行的两个第一电极条,所述第二电极部包括互相平行的两个第二电极条。
9.根据权利要求8所述的光阑挡片装置,其特征在于,所述透光区域的外边缘为矩形外边缘,所述两个第一电极条的沿长度方向的两条中心线间的距离为第一距离;所述两个第二电极条的沿长度方向的两条中心线间的距离为第二距离;所述第一距离、所述第二距离,以及所述矩形外边缘对应的边的长度均相同。
10.根据权利要求8所述的光阑挡片装置,其特征在于,各所述第一电极条与各所述第二电极条的宽度均相同。
11.根据权利要求1至3任一项所述的光阑挡片装置,其特征在于,所述第一电极部连接有一第一接引段,所述第二电极部连接有第二接引段。
12.根据权利要求1至3任一项所述的光阑挡片装置,其特征在于,所述第一偏光层与所述第二偏光层的尺寸与形状相同。
13.一种边缘曝光镜头,其特征在于,用于对硅片上光刻胶的涂胶边缘区进行曝光,包括权利要求1至12任一项所述的光阑挡片装置。
14.一种光刻系统,其特征在于,包括权利要求13所述的边缘曝光镜头。
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