[发明专利]基板液处理装置和基板液处理方法

说明书

提供一种减少对基板的处理的不均的基板液处理装置和基板液处理方法。实施方式所涉及的基板液处理装置具备载置部、液处理部、搬送部以及旋转部。载置部载置从外部搬入的基板。液处理部通过使基板以基板的板面与水平方向正交的姿势浸在处理液中来对基板进行处理。搬送部在载置部与液处理部之间搬送基板。旋转部使利用液处理部进行了第一处理的基板以与基板的板面垂直的轴为中心进行旋转，使基板旋转为与进行第一处理时的朝向不同的朝向。另外，搬送部将利用液处理部进行了第一处理的基板从液处理部搬送到旋转部，将通过旋转部来进行了旋转的基板从旋转部搬送到液处理部。另外，液处理使通过旋转部来进行了旋转的基板浸在处理液中来进行第二处理。

技术领域

公开的实施方式涉及一种基板液处理装置和基板液处理方法。

背景技术

以往，已知一种通过使基板浸在贮存有处理液的处理槽中来对基板进行处理的基板液处理装置(例如参照专利文献1)。

在上述基板液处理装置中，通过使基板以基板的板面与水平方向正交的姿势(以下称作垂直姿势。)进行升降来对基板进行蚀刻处理。

专利文献1：日本特开2015-56631号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，在上述基板液处理装置中，在从处理槽取出基板时，附着于基板的处理液由于重力而向下方流动，因此存在有在基板的上下方向上发生处理不均的风险。

实施方式的一个方式的目的在于减少对基板的处理的不均。

用于解决问题的方案

实施方式的一个方式所涉及的基板液处理装置具备载置部、液处理部、搬送部和旋转部。载置部载置从外部搬入的基板。液处理部通过使基板以基板的板面与水平方向正交的姿势浸在处理液中来对基板进行处理。搬送部在载置部与液处理部之间搬送基板。旋转部使利用液处理部进行了第一处理的基板以与基板的板面垂直的轴为中心进行旋转，使基板旋转为与进行第一处理时的朝向不同的朝向。另外，搬送部将利用液处理部进行了第一处理的基板从液处理部搬送到旋转部，将通过旋转部来进行了旋转的基板从旋转部搬送到液处理部。另外，液处理部使通过旋转部来进行了旋转的基板浸在处理液中，由此进行第二处理。

发明的效果

根据实施方式的一个方式，能够减少对基板的处理的不均。

附图说明

图1是基板液处理装置的概要俯视图。

图2是说明蚀刻处理装置的结构的概要框图。

图3是处理槽(内槽)的概要俯视图。

图4是基板旋转部的概要侧视图。

图5是说明基板液处理装置的处理工序的流程图。

图6是说明通过基板旋转部使多张基板进行的旋转的概要图。

图7是变形例的基板液处理装置的概要俯视图。

图8是表示变形例的基板液处理装置的一部分的概要侧视图。

图9是表示变形例的基板旋转部的一部分的剖切立体图。

图10是变形例的基板旋转部的概要侧视图。

图11是变形例的基板旋转部的概要俯视图。

附图标记说明